|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2021 |
1. |
С. А. Кукушкин, Ш. Ш. Шарофидинов, А. В. Осипов, А. С. Гращенко, А. В. Кандаков, Е. В. Осипова, К. П. Котляр, Е. В. Убыйвовк, “Самоорганизация состава пленок Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N, выращенных на гибридных подложках SiC/Si”, Физика твердого тела, 63:3 (2021), 363–369 ; S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, A. V. Osipov, A. S. Grashchenko, A. V. Kandakov, E. V. Osipova, K. P. Kotlyar, E. V. Ubyivovk, “Self-organization of the composition of Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N films grown on hybrid SiC/Si substrates”, Phys. Solid State, 63:3 (2021), 442–448 |
8
|
2. |
Н. Т. Баграев, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, Л. Е. Клячкин, А. М. Маляренко, В. С. Хромов, “Регистрация терагерцового излучения с помощью наноструктур карбида кремния”, Физика и техника полупроводников, 55:12 (2021), 1195–1202 |
2
|
3. |
Н. Т. Баграев, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, Л. Е. Клячкин, А. М. Маляренко, В. С. Хромов, “Терагерцовое излучение из наноструктур карбида кремния”, Физика и техника полупроводников, 55:11 (2021), 1027–1033 |
3
|
4. |
Н. Т. Баграев, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, В. В. Романов, Л. Е. Клячкин, А. М. Маляренко, В. С. Хромов, “Магнитные свойства тонких эпитаксиальных слоев SiC, выращенных методом самосогласованного замещения атомов на поверхностях монокристаллического кремния”, Физика и техника полупроводников, 55:2 (2021), 103–111 ; N. T. Bagraev, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, V. V. Romanov, L. E. Klyachkin, A. M. Malyarenko, V. S. Khromov, “Magnetic properties of thin epitaxial SiC layers grown by the atom-substitution method on single-crystal silicon surfaces”, Semiconductors, 55:2 (2021), 137–145 |
13
|
5. |
В. О. Гридчин, Р. Р. Резник, К. П. Котляр, А. С. Драгунова, Н. В. Крыжановская, А. Ю. Серов, С. А. Кукушкин, Г. Э. Цырлин, “Молекулярно-пучковая эпитаксия нитевидных нанокристаллов InGaN на подложках SiC/Si(111) и Si(111): сравнительный анализ”, Письма в ЖТФ, 47:21 (2021), 32–35 |
2
|
6. |
А. С. Гращенко, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, А. В. Редьков, “Механические свойства композитного покрытия SiC на графите, полученного методом замещения атомов”, Письма в ЖТФ, 47:20 (2021), 7–10 |
7. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Термодинамическая стабильность твердых растворов In$_{x}$Ga$_{1-x}$N”, Письма в ЖТФ, 47:19 (2021), 51–54 |
2
|
8. |
Л. К. Марков, С. А. Кукушкин, И. П. Смирнова, А. С. Павлюченко, А. С. Гращенко, А. В. Осипов, Г. В. Святец, А. Е. Николаев, А. В. Сахаров, В. В. Лундин, А. Ф. Цацульников, “Светодиод на основе AlInGaN-гетероструктур, выращенных на подложках SiC/Si и технология его изготовления”, Письма в ЖТФ, 47:18 (2021), 3–6 |
3
|
9. |
Н. А. Черкашин, А. В. Сахаров, А. Е. Николаев, В. В. Лундин, С. О. Усов, В. М. Устинов, А. С. Гращенко, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, А. Ф. Цацульников, “Особенности эпитаксиального роста III – N светодиодных гетероструктур на подложках SiC/Si”, Письма в ЖТФ, 47:15 (2021), 15–18 ; N. A. Cherkashin, A. V. Sakharov, A. E. Nikolaev, V. V. Lundin, S. O. Usov, V. M. Ustinov, A. S. Grashchenko, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, A. F. Tsatsul'nikov, “Peculiarities of epitaxial growth of III – N led heterostructures on SiC/Si substrates”, Tech. Phys. Lett., 47:10 (2021), 753–756 |
6
|
10. |
А. В. Солнышкин, О. Н. Сергеева, О. А. Шустова, Ш. Ш. Шарофидинов, М. В. Старицын, Е. Ю. Каптелов, С. А. Кукушкин, И. П. Пронин, “Диэлектрические и пироэлектрические свойства композитов на основе нитридов алюминия и галлия, выращенных методом хлорид-гидридной эпитаксии на подложке карбида кремния на кремнии”, Письма в ЖТФ, 47:9 (2021), 7–10 ; A. V. Solnyshkin, O. N. Sergeeva, O. A. Shustova, Sh. Sh. Sharofidinov, M. V. Staritsyn, E. Yu. Kaptelov, S. A. Kukushkin, I. P. Pronin, “Dielectric and pyroelectric properties of composites based on aluminum and gallium nitrides grown by chloride-hydride epitaxy on a silicon carbide-on-silicon substrate”, Tech. Phys. Lett., 47:6 (2021), 466–469 |
5
|
11. |
А. А. Корякин, Ю. А. Еремеев, А. В. Осипов, С. А. Кукушкин, “Влияние пористости слоя кремния на упругие свойства гибридных подложек SiC/Si”, Письма в ЖТФ, 47:3 (2021), 25–28 ; A. A. Koryakin, Yu. A. Eremeev, A. V. Osipov, S. A. Kukushkin, “The influence of the porosity of silicon layer on the elastic properties of hybrid SiC/Si substrates”, Tech. Phys. Lett., 47:2, 126–129 |
4
|
|
2020 |
12. |
П. В. Середин, Д. Л. Голощапов, Д. С. Золотухин, А. С. Леньшин, Ю. Ю. Худяков, А. М. Мизеров, С. Н. Тимошнев, И. Н. Арсентьев, А. Н. Бельтюков, Harald Leiste, С. А. Кукушкин, “Влияние слоя нанопористого кремния на практическую реализацию и особенности эпитаксиального роста слоев GaN на темплейтах SiC/$por$-Si/$c$-Si”, Физика и техника полупроводников, 54:5 (2020), 491–503 ; P. V. Seredin, D. L. Goloshchapov, D. S. Zolotukhin, A. S. Len'shin, Yu. Yu. Khudyakov, A. M. Mizerov, S. N. Timoshnev, I. N. Arsent'ev, A. N. Beltyukov, Harald Leiste, S. A. Kukushkin, “Influence of a nanoporous silicon layer on the practical implementation and specific features of the epitaxial growth of GaN layers on SiC/$por$-Si/$c$-Si templates”, Semiconductors, 54:5 (2020), 596–608 |
3
|
13. |
П. В. Середин, Д. Л. Голощапов, Д. С. Золотухин, А. С. Леньшин, А. М. Мизеров, С. Н. Тимошнев, Е. В. Никитина, И. Н. Арсентьев, С. А. Кукушкин, “Оптические свойства гибридных гетероструктур GaN/SiC/$por$-Si/Si(111)”, Физика и техника полупроводников, 54:4 (2020), 346–354 ; P. V. Seredin, D. L. Goloshchapov, D. S. Zolotukhin, A. S. Len'shin, A. M. Mizerov, S. N. Timoshnev, E. V. Nikitina, I. N. Arsent'ev, S. A. Kukushkin, “Optical properties of GaN/SiC/$por$-Si/Si(111) hybrid heterostructures”, Semiconductors, 54:4 (2020), 417–425 |
2
|
14. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Оптические свойства, зонная структура и проводимость межфазной границы раздела гетероструктуры 3$C$-SiC(111)/Si(111), выращенной методом замещения атомов”, Письма в ЖТФ, 46:22 (2020), 3–5 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “The optical properties, energy band structure, and interfacial conductance of a 3$C$-SiC(111)/Si(111) heterostructure grown by the method of atomic substitution”, Tech. Phys. Lett., 46:11 (2020), 1103–1106 |
9
|
15. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, А. И. Романычев, И. А. Касаткин, А. С. Лошаченко, “Низкотемпературный рост кубической фазы CdS методом атомно-слоевого осаждения на гибридных подложках SiC/Si”, Письма в ЖТФ, 46:21 (2020), 3–6 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, A. I. Romanychev, I. A. Kasatkin, A. S. Loshachenko, “Low-temperature growth of the CdS cubic phase by atomic-layer deposition on SiC/Si hybrid substrates”, Tech. Phys. Lett., 46:11 (2020), 1049–1052 |
3
|
16. |
Д. Д. Авров, А. Н. Горляк, А. О. Лебедев, В. В. Лучинин, А. В. Марков, А. В. Осипов, М. Ф. Панов, С. А. Кукушкин, “Сравнительный эллипсометрический анализ политипов карбида кремния 4$H$, 15$R$, 6$H$, полученных модифицированным методом Лели в одном ростовом процессе”, Письма в ЖТФ, 46:19 (2020), 28–31 ; D. D. Avrov, A. N. Gorlyak, A. O. Lebedev, V. V. Luchinin, A. V. Markov, A. V. Osipov, M. F. Panov, S. A. Kukushkin, “Comparative ellipsometric analysis of silicon carbide polytypes 4$H$, 15$R$, and 6$H$ produced by a modified Lely method in the same growth process”, Tech. Phys. Lett., 46:10 (2020), 968–971 |
4
|
17. |
А. В. Осипов, А. С. Гращенко, А. Н. Горляк, А. О. Лебедев, В. В. Лучинин, А. В. Марков, М. Ф. Панов, С. А. Кукушкин, “Исследование методом наноиндентирования твердости и модуля Юнга в тонких приповерхностных слоях карбида кремния со стороны Si- и C-граней”, Письма в ЖТФ, 46:15 (2020), 36–38 ; A. V. Osipov, A. S. Grashchenko, A. N. Gorlyak, A. O. Lebedev, V. V. Luchinin, A. V. Markov, M. F. Panov, S. A. Kukushkin, “Investigation of the hardness and Young's modulus in thin near-surface layers of silicon carbide from the Si- and C-faces by nanoindentation”, Tech. Phys. Lett., 46:8 (2020), 763–766 |
8
|
18. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, А. В. Редьков, Ш. Ш. Шарофидинов, “Рост объемных эпитаксиальных пленок AlN полуполярной ориентации на подложках Si (001) и гибридных подложках SiC/Si (001)”, Письма в ЖТФ, 46:11 (2020), 22–25 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, A. V. Redkov, Sh. Sh. Sharofidinov, “Epitaxial growth of bulk semipolar aln films on Si(001) and hybrid SiC/Si(001) substrates”, Tech. Phys. Lett., 46:6 (2020), 539–542 |
5
|
|
2019 |
19. |
G. V. Benemanskaya, S. A. Kukushkin, S. N. Timoshnev, “Aromatic-like carbon nanostructures created on the vicinal SiC surfaces”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2436 ; Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2455–2458 |
1
|
20. |
О. Н. Сергеева, А. В. Солнышкин, Д. А. Киселев, Т. С. Ильина, С. А. Кукушкин, Ш. Ш. Шарофидинов, Е. Ю. Каптелов, И. П. Пронин, “Влияние ориентации кремниевой подложки с буферным подслоем карбида кремния на диэлектрические и полярные свойства пленок нитрида алюминия”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2379–2384 ; O. N. Sergeeva, A. V. Solnyshkin, D. A. Kiselev, T. S. Ilina, S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, E. Yu. Kaptelov, I. P. Pronin, “Influence of orientation of a silicon substrate with a buffer silicon carbide layer on dielectric and polar properties of aluminum nitride films”, Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2386–2391 |
8
|
21. |
С. А. Кукушкин, Ш. Ш. Шарофидинов, “Новый метод получения объемных кристаллов AlN, GaN и AlGaN с использованием гибридных подложек SiC/Si”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2338–2343 ; S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, “A new method of growing AlN, GaN, and AlGaN bulk crystals using hybrid SiC/Si substrates”, Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2342–2347 |
16
|
22. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Механизм диффузии монооксидов углерода и кремния в кристалле кубического карбида кремния”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2334–2337 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Mechanism of diffusion of carbon and silicon monooxides in a cubic silicon carbide crystal”, Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2338–2341 |
2
|
23. |
Л. М. Сорокин, М. Ю. Гуткин, А. В. Мясоедов, А. Е. Калмыков, В. Н. Бессолов, С. А. Кукушкин, “Дислокационные реакции в полуполярном слое GaN, выращенном на вицинальной подложке Si(001) с использованием буферных слоев AlN и 3$C$-SiC”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2317–2321 ; L. M. Sorokin, M. Yu. Gutkin, A. V. Myasoedov, A. E. Kalmykov, V. N. Bessolov, S. A. Kukushkin, “Dislocation reactions in a semipolar gallium nitride layer grown on a vicinal Si(001) substrate using aluminum nitride and 3$C$–SiC buffer layers”, Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2316–2320 |
1
|
24. |
А. С. Гращенко, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Исследование упругих свойств пленок SiC, синтезированных на подложках Si методом замещения атомов”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2313–2315 ; A. S. Grashchenko, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Study of elastic properties of SiC films synthesized on Si substrates by the method of atomic substitution”, Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2310–2312 |
5
|
25. |
С. Н. Тимошнев, А. М. Мизеров, Г. В. Бенеманская, С. А. Кукушкин, А. Д. Буравлев, “Фотоэмиссионные исследования электронной структуры GaN, выращенного методом молекулярно-пучковой эпитаксии с плазменной активацией азота”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2294–2297 ; S. N. Timoshnev, A. M. Mizerov, G. V. Benemanskaya, S. A. Kukushkin, A. D. Bouravlev, “Photoemission studies of the electronic structure of GaN grown by plasma assisted molecular beam epitaxy”, Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2282–2285 |
3
|
26. |
А. М. Мизеров, С. А. Кукушкин, Ш. Ш. Шарофидинов, А. В. Осипов, С. Н. Тимошнев, К. Ю. Шубина, Т. Н. Березовская, Д. В. Мохов, А. Д. Буравлев, “Метод управления полярностью слоев GaN при эпитаксиальном синтезе GaN/AlN гетероструктур на гибридных подложках SiC/Si”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2289–2293 ; A. M. Mizerov, S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, A. V. Osipov, S. N. Timoshnev, K. Yu. Shubina, T. N. Berezovskaya, D. V. Mokhov, A. D. Bouravlev, “Method for controlling the polarity of gallium nitride layers in epitaxial synthesis of GaN/AlN heterostructures on hybrid SiC/Si substrates”, Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2277–2281 |
4
|
27. |
Л. Н. Давыдов, С. А. Кукушкин, “Международная конференция “Механизмы и нелинейные проблемы нуклеации, роста кристаллов и тонких пленок”, посвященная памяти выдающегося физика-теоретика профессора В.В. Слёзова”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2269–2273 ; L. N. Davydov, S. A. Kukushkin, “Proceedings of the International Conference “Mechanisms and nonlinear problems of nucleation and growth of crystals and thin films”, dedicated to the memory of the outstanding theoretical physicist professor V.V. Slyozov”, Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2249–2253 |
1
|
28. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Пути политипных превращений в карбиде кремния”, Физика твердого тела, 61:8 (2019), 1443–1447 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Pathways of transitions between polytypes in silicon carbide”, Phys. Solid State, 61:8 (2019), 1389–1393 |
29. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, Н. А. Феоктистов, “Двухстадийная конверсия кремния в наноструктурированный углерод методом согласованного замещения атомов”, Физика твердого тела, 61:3 (2019), 587–593 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, N. A. Feoktistov, “Two-stage conversion of silicon to nanostructured carbon by the method of coordinated atomic substitution”, Phys. Solid State, 61:3 (2019), 456–463 |
6
|
30. |
А. В. Редьков, А. С. Гращенко, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, К. П. Котляр, А. И. Лихачев, А. В. Нащекин, И. П. Сошников, “Эволюция ансамбля микропор в структуре SiC/Si в процессе роста методом замещения атомов”, Физика твердого тела, 61:3 (2019), 433–440 ; A. V. Redkov, A. S. Grashchenko, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, K. P. Kotlyar, A. I. Lihachev, A. V. Nashchekin, I. P. Soshnikov, “Studying evolution of the ensemble of micropores in a SiC/Si structure during its growth by the method of atom substitution”, Phys. Solid State, 61:3 (2019), 299–306 |
15
|
31. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Микроскопическое описание механизма перехода между политипами 2$H$ и 4$H$ карбида кремния”, Физика твердого тела, 61:3 (2019), 422–425 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Microscopic description of the mechanism of transition between the 2$H$ and 4$H$ polytypes of silicon carbide”, Phys. Solid State, 61:3 (2019), 288–291 |
4
|
32. |
А. А. Корякин, С. А. Кукушкин, Н. В. Сибирев, “Механизм роста пар–кристалл–кристалл Au-каталитических GaAs-нитевидных нанокристаллов”, Физика и техника полупроводников, 53:3 (2019), 370–380 ; A. A. Koryakin, S. A. Kukushkin, N. V. Sibirev, “On the mechanism of the vapor–solid–solid growth of Au-catalyzed GaAs nanowires”, Semiconductors, 53:3 (2019), 350–360 |
12
|
33. |
С. А. Кукушкин, А. М. Мизеров, А. С. Гращенко, А. В. Осипов, Е. В. Никитина, С. Н. Тимошнев, А. Д. Буравлев, М. С. Соболев, “Фотоэлектрические свойства слоев GaN, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии с плазменной активацией на подложках Si(111) и эпитаксиальных слоях SiC на Si(111)”, Физика и техника полупроводников, 53:2 (2019), 190–198 ; S. A. Kukushkin, A. M. Mizerov, A. S. Grashchenko, A. V. Osipov, E. V. Nikitina, S. N. Timoshnev, A. D. Bouravlev, M. S. Sobolev, “Photoelectric properties of GaN layers grown by plasma-assisted molecular-beam epitaxy on Si(111) substrates and SiC/Si(111) epitaxial layers”, Semiconductors, 53:2 (2019), 180–187 |
4
|
34. |
В. В. Антипов, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Эпитаксиальный рост cульфида цинка методом молекулярного наслаивания на гибридных подложках SiC/Si”, Письма в ЖТФ, 45:21 (2019), 11–14 ; V. V. Antipov, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Epitaxial growth of zinc sulfide by atomic layer deposition on SiC/Si hybrid substrates”, Tech. Phys. Lett., 45:11 (2019), 1075–1077 |
2
|
35. |
Ш. Ш. Шарофидинов, С. А. Кукушкин, А. В. Редьков, А. С. Гращенко, А. В. Осипов, “Рост полупроводниковых III–V гетероструктур на подложках SiC/Si”, Письма в ЖТФ, 45:14 (2019), 24–27 ; Sh. Sh. Sharofidinov, S. A. Kukushkin, A. V. Redkov, A. S. Grashchenko, A. V. Osipov, “Growing III–V semiconductor heterostructures on SiC/Si substrates”, Tech. Phys. Lett., 45:7 (2019), 711–713 |
16
|
36. |
Г. В. Бенеманская, П. А. Дементьев, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, С. Н. Тимошнев, “Новый тип углеродной наноструктуры на вицинальной поверхности SiС(111)-8$^\circ$”, Письма в ЖТФ, 45:5 (2019), 17–20 ; G. V. Benemanskaya, P. A. Dementev, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, S. N. Timoshnev, “A new type of carbon nanostructure on a vicinal SiС(111)-8$^\circ$ surface”, Tech. Phys. Lett., 45:3 (2019), 201–204 |
8
|
|
2018 |
37. |
Ю. Э. Китаев, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, А. В. Редьков, “Новая тригональная (ромбоэдрическая) фаза SiC: ab initio расчеты, симметрийный анализ и рамановские спектры”, Физика твердого тела, 60:10 (2018), 2022–2027 ; Yu. È. Kitaev, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, A. V. Redkov, “A new trigonal (rhombohedral) sic phase: ab initio calculations, a symmetry analysis and the Raman spectra”, Phys. Solid State, 60:10 (2018), 2066–2071 |
4
|
38. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Механизм образования углеродно-вакансионных структур в карбиде кремния при его росте методом замещения атомов”, Физика твердого тела, 60:9 (2018), 1841–1846 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Mechanism of formation of carbon–vacancy structures in silicon carbide during its growth by atomic substitution”, Phys. Solid State, 60:9 (2018), 1891–1896 |
10
|
39. |
А. С. Гращенко, С. А. Кукушкин, В. И. Николаев, А. В. Осипов, Е. В. Осипова, И. П. Сошников, “Исследование анизотропных упругопластических свойств пленок $\beta$-Ga$_{2}$O$_{3}$, синтезированных на подложках SiC/Si”, Физика твердого тела, 60:5 (2018), 851–856 ; A. S. Grashchenko, S. A. Kukushkin, V. I. Nikolaev, A. V. Osipov, E. V. Osipova, I. P. Soshnikov, “Study of the anisotropic elastoplastic properties of $\beta$-Ga$_{2}$O$_{3}$ films synthesized on SiC/Si substrates”, Phys. Solid State, 60:5 (2018), 852–857 |
25
|
40. |
В. В. Антипов, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, В. П. Рубец, “Эпитаксиальный рост пленок селенида кадмия на кремнии с буферным слоем карбида кремния”, Физика твердого тела, 60:3 (2018), 499–504 ; V. V. Antipov, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, V. P. Rubets, “Epitaxial growth of cadmium selenide films on silicon with a silicon carbide buffer layer”, Phys. Solid State, 60:3 (2018), 504–509 |
6
|
41. |
И. П. Калинкин, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Влияние химической подготовки поверхности кремния на качество и структуру эпитаксиальных пленок карбида кремния, синтезированных методом замещения атомов”, Физика и техника полупроводников, 52:6 (2018), 656–663 ; I. P. Kalinkin, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Effect of chemical treatment of a silicon surface on the quality and structure of silicon-carbide epitaxial films synthesized by atom substitution”, Semiconductors, 52:6 (2018), 802–808 |
18
|
42. |
R. R. Reznik, K. P. Kotlyar, I. P. Soshnikov, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, G. E. Cirlin, “MBE growth and structural properties of InAs and InGaAs nanowires with different mole fraction of In on Si and strongly mismatched SiC/Si(111) substrates”, Физика и техника полупроводников, 52:5 (2018), 522 ; Semiconductors, 52:5 (2018), 651–653 |
2
|
43. |
G. E. Cirlin, R. R. Reznik, I. V. Shtrom, A. I. Khrebtov, Yu. B. Samsonenko, S. A. Kukushkin, T. Kasama, N. Akopian, “Hybrid GaAs/AlGaAs nanowire – quantum dot system for single photon sources”, Физика и техника полупроводников, 52:4 (2018), 469 ; Semiconductors, 52:4 (2018), 462–464 |
10
|
|
2017 |
44. |
С. А. Грудинкин, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, Н. А. Феоктистов, “ИК-спектры углерод-вакансионных кластеров при топохимическом превращении кремния в карбид кремния”, Физика твердого тела, 59:12 (2017), 2403–2408 ; S. A. Grudinkin, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, N. A. Feoktistov, “IR spectra of carbon-vacancy clusters in the topochemical transformation of silicon into silicon carbide”, Phys. Solid State, 59:12 (2017), 2430–2435 |
8
|
45. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Квантово-механическая модель дилатационных диполей при топохимическом синтезе карбида кремния из кремния”, Физика твердого тела, 59:6 (2017), 1214–1217 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “A quantum-mechanical model of dilatation dipoles in topochemical synthesis of silicon carbide from silicon”, Phys. Solid State, 59:6 (2017), 1238–1241 |
3
|
46. |
С. А. Кукушкин, К. Х. Нусупов, А. В. Осипов, Н. Б. Бейсенханов, Д. И. Бакранова, “Рентгеновская рефлектометрия и моделирование параметров эпитаксиальных пленок SiC на Si(111), выращенных методом замещения атомов”, Физика твердого тела, 59:5 (2017), 986–998 ; S. A. Kukushkin, K. Kh. Nussupov, A. V. Osipov, N. B. Beisenkhanov, D. I. Bakranova, “X-ray reflectometry and simulation of the parameters of SiC epitaxial films on Si(111), grown by the atomic substitution method”, Phys. Solid State, 59:5 (2017), 1014–1026 |
10
|
47. |
В. К. Егоров, Е. В. Егоров, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Структурная гетероэпитаксия при топохимическом превращении кремния в карбид кремния”, Физика твердого тела, 59:4 (2017), 755–761 ; V. K. Egorov, E. V. Egorov, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Structural heteroepitaxy during topochemical transformation of silicon to silicon carbide”, Phys. Solid State, 59:4 (2017), 773–779 |
3
|
48. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, В. Н. Бессолов, Е. В. Коненкова, В. Н. Пантелеев, “Остановка и разворот дислокаций несоответствия при росте нитрида галлия на подложках SiC/Si”, Физика твердого тела, 59:4 (2017), 660–667 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, V. N. Bessolov, E. V. Konenkova, V. N. Panteleev, “Misfit dislocation locking and rotation during gallium nitride growth on SiC/Si substrates”, Phys. Solid State, 59:4 (2017), 674–681 |
4
|
49. |
В. В. Антипов, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Эпитаксиальный рост пленок теллурида кадмия на кремнии с буферным слоем карбида кремния”, Физика твердого тела, 59:2 (2017), 385–388 ; V. V. Antipov, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Epitaxial growth of cadmium telluride films on silicon with a buffer silicon carbide layer”, Phys. Solid State, 59:2 (2017), 399–402 |
5
|
50. |
Ю. Э. Китаев, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Эволюция симметрии промежуточных фаз и их фононных спектров в процессе топохимического превращения кремния в карбид кремния”, Физика твердого тела, 59:1 (2017), 30–35 ; Yu. È. Kitaev, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Evolution of the symmetry of intermediate phases and their phonon spectra during the topochemical conversion of silicon into silicon carbide”, Phys. Solid State, 59:1 (2017), 28–33 |
6
|
51. |
Р. Р. Резник, К. П. Котляр, И. В. Штром, И. П. Сошников, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, Г. Э. Цырлин, “Синтез методом молекулярно-пучковой эпитаксии A$^{\mathrm{III}}$B$^{\mathrm{V}}$ нитевидных нанокристаллов ультра малого диаметра на сильно рассогласованной подложке SiC/Si(111)”, Физика и техника полупроводников, 51:11 (2017), 1525–1529 ; R. R. Reznik, K. P. Kotlyar, I. V. Shtrom, I. P. Sotnikov, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, G. E. Cirlin, “MBE growth of ultrathin III–V nanowires on a highly mismatched SiC/Si(111) substrate”, Semiconductors, 51:11 (2017), 1472–1476 |
1
|
52. |
А. С. Гращенко, Н. А. Феоктистов, А. В. Осипов, Е. В. Калинина, С. А. Кукушкин, “Фотоэлектрические характеристики структур карбид кремния–кремний, выращенных методом замещения атомов в кристаллической решетке кремния”, Физика и техника полупроводников, 51:5 (2017), 651–658 ; A. S. Grashchenko, N. A. Feoktistov, A. V. Osipov, E. V. Kalinina, S. A. Kukushkin, “Photoelectric characteristics of silicon carbide–silicon structures grown by the atomic substitution method in a silicon crystal lattice”, Semiconductors, 51:5 (2017), 621–627 |
10
|
53. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, А. В. Редьков, “Отделение эпитаксиальных гетероструктур III–N/SiC от подложки Si и их перенос на подложки других типов”, Физика и техника полупроводников, 51:3 (2017), 414–420 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, A. V. Redkov, “Separation of III–N/SiC epitaxial heterostructure from a Si substrate and their transfer to other substrate types”, Semiconductors, 51:3 (2017), 396–401 |
13
|
54. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Эффект Горского при синтезе пленок карбида кремния из кремния методом топохимического замещения атомов”, Письма в ЖТФ, 43:13 (2017), 81–88 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “The Gorsky effect in the synthesis of silicon-carbide films from silicon by topochemical substitution of atoms”, Tech. Phys. Lett., 43:7 (2017), 631–634 |
15
|
|
2016 |
55. |
Р. Р. Резник, К. П. Котляр, И. В. Илькив, И. П. Сошников, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, Е. В. Никитина, Г. Э. Цырлин, “Рост и оптические свойства нитевидных нанокристаллов GaN, выращенных на гибридной подложке SiC/Si(111) методом молекулярно-пучковой эпитаксии”, Физика твердого тела, 58:10 (2016), 1886–1889 ; R. R. Reznik, K. P. Kotlyar, I. V. Ilkiv, I. P. Soshnikov, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, E. V. Nikitina, G. E. Cirlin, “Growth and optical properties of filamentary GaN nanocrystals grown on a hybrid SiC/Si(111) substrate by molecular beam epitaxy”, Phys. Solid State, 58:10 (2016), 1952–1955 |
11
|
56. |
С. А. Кукушкин, В. И. Николаев, А. В. Осипов, Е. В. Осипова, А. И. Печников, Н. А. Феоктистов, “Эпитаксиальный оксид галлия на подложках SiC/Si”, Физика твердого тела, 58:9 (2016), 1812–1817 ; S. A. Kukushkin, V. I. Nikolaev, A. V. Osipov, E. V. Osipova, A. I. Pechnikov, N. A. Feoktistov, “Epitaxial gallium oxide on a SiC/Si substrate”, Phys. Solid State, 58:9 (2016), 1876–1881 |
23
|
57. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, А. И. Романычев, “Эпитаксиальный рост оксида цинка методом молекулярного наслаивания на подложках SiC/Si”, Физика твердого тела, 58:7 (2016), 1398–1402 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, A. I. Romanychev, “Epitaxial growth of zinc oxide by the method of atomic layer deposition on SiC/Si substrates”, Phys. Solid State, 58:7 (2016), 1448–1452 |
21
|
58. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, Р. С. Телятник, “Упругое взаимодействие точечных дефектов в кубических и гексагональных кристаллах”, Физика твердого тела, 58:5 (2016), 941–949 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, R. S. Telyatnik, “Elastic interaction of point defects in cubic and hexagonal crystals”, Phys. Solid State, 58:5 (2016), 971–980 |
14
|
59. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, О. Н. Сергеева, Д. А. Киселев, А. А. Богомолов, А. В. Солнышкин, Е. Ю. Каптелов, С. В. Сенкевич, И. П. Пронин, “Пироэлектрический и пьезоэлектрический отклики тонких пленок AlN, эпитаксиально выращенных на подложке SiC/Si”, Физика твердого тела, 58:5 (2016), 937–940 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, O. N. Sergeeva, D. A. Kiselev, A. A. Bogomolov, A. V. Solnyshkin, E. Yu. Kaptelov, S. V. Senkevich, I. P. Pronin, “Pyroelectric and piezoelectric responses of thin AlN films epitaxy-grown on a SiC/Si substrate”, Phys. Solid State, 58:5 (2016), 967–970 |
14
|
60. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Фазовое равновесие при образовании карбида кремния за счет топохимического превращения из кремния”, Физика твердого тела, 58:4 (2016), 725–729 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Phase equilibrium in the formation of silicon carbide by topochemical conversion of silicon”, Phys. Solid State, 58:4 (2016), 747–751 |
14
|
61. |
В. В. Антипов, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Эпитаксиальный рост пленок сульфида кадмия на кремнии”, Физика твердого тела, 58:3 (2016), 612–615 ; V. V. Antipov, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Epitaxial growth of cadmium sulfide films on silicon”, Phys. Solid State, 58:3 (2016), 629–632 |
9
|
62. |
Г. В. Бенеманская, П. А. Дементьев, С. А. Кукушкин, М. Н. Лапушкин, А. В. Осипов, Б. В. Сеньковский, “Спектроскопия остовного уровня атомов углерода C 1$s$ на поверхности эпитаксиального слоя SiC/Si(111) 4$^\circ$ и интерфейса Cs/SiC/Si(111) 4$^\circ$”, Физика и техника полупроводников, 50:10 (2016), 1348–1352 ; G. V. Benemanskaya, P. A. Dementev, S. A. Kukushkin, M. N. Lapushkin, A. V. Osipov, B. V. Senkovskiy, “The C 1$s$ core level spectroscopy of carbon atoms at the surface SiC/Si(111)-4$^\circ$ layer and Cs/SiC/Si(111)-4$^\circ$ interface”, Semiconductors, 50:10 (2016), 1327–1332 |
3
|
63. |
Г. В. Бенеманская, П. А. Дементьев, С. А. Кукушкин, М. Н. Лапушкин, Б. В. Сеньковский, С. Н. Тимошнев, “Индуцированные поверхностные состояния ультратонкого интерфейса Ва/3$C$-SiC(111)”, Физика и техника полупроводников, 50:4 (2016), 465–469 ; G. V. Benemanskaya, P. A. Dementev, S. A. Kukushkin, M. N. Lapushkin, B. V. Senkovskiy, S. N. Timoshnev, “Induced surface states of the ultrathin Ва/3$C$-SiC(111) interface”, Semiconductors, 50:4 (2016), 457–461 |
2
|
64. |
Г. В. Бенеманская, П. А. Дементьев, С. А. Кукушкин, М. Н. Лапушкин, А. В. Осипов, С. Н. Тимошнев, “Фотоэмиссионные исследования вицинальной поверхности SiC(100) 4$^\circ$ и интерфейса Cs/SiC(100) 4$^\circ$”, Письма в ЖТФ, 42:23 (2016), 51–57 ; G. V. Benemanskaya, P. A. Dementev, S. A. Kukushkin, M. N. Lapushkin, A. V. Osipov, S. N. Timoshnev, “Photoemission studies of the vicinal SiC(100) 4$^\circ$ surface and the Cs/SiC(100) 4$^\circ$ interface”, Tech. Phys. Lett., 42:12 (2016), 1145–1148 |
3
|
65. |
А. В. Редьков, А. В. Осипов, С. А. Кукушкин, “Моделирование процесса индентирования наномасштабных пленок на подложках методом молекулярной динамики”, Письма в ЖТФ, 42:12 (2016), 64–72 ; A. V. Redkov, A. V. Osipov, S. A. Kukushkin, “Molecular dynamics simulation of the indentation of nanoscale films on a substrate”, Tech. Phys. Lett., 42:6 (2016), 639–643 |
5
|
66. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Определение политипного состава пленок карбида кремния методом ультрафиолетовой эллипсометрии”, Письма в ЖТФ, 42:4 (2016), 16–22 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Determining polytype composition of silicon carbide films by UV ellipsometry”, Tech. Phys. Lett., 42:2 (2016), 175–178 |
16
|
|
1998 |
67. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Процессы конденсации тонких пленок”, УФН, 168:10 (1998), 1083–1116 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Thin-film condensation processes”, Phys. Usp., 41:10 (1998), 983–1014 |
240
|
|
1992 |
68. |
С. А. Кукушкин, Т. В. Сакало, “Кинетика диффузионной коалесценции твердых растворов и температурной коалесценции однокомпонентных расплавов в случае послойного роста ядер новой фазы”, Физика твердого тела, 34:4 (1992), 1102–1108 |
69. |
Т. В. Сакало, В. Н. Бессолов, С. А. Кукушкин, М. В. Лебедев, Б. В. Царенков, “Релаксационная жидкостная эпитаксия с инверсией массопереноса: модель
и эксперимент”, ЖТФ, 62:3 (1992), 100–105 |
|
1990 |
70. |
Т. В. Сакало, С. А. Кукушкин, “Теоретические основы релаксационной жидкостной эпитаксии с инверсией
массопереноса”, ЖТФ, 60:7 (1990), 78–83 |
|
1988 |
71. |
А. В. Шапурко, Л. А. Громов, С. А. Кукушкин, В. И. Штанько, “Диффузионный рост вакансионных пор в облученных монокристаллах бромида цезия”, Физика твердого тела, 30:11 (1988), 3493–3496 |
72. |
С. А. Кукушкин, В. В. Слезов, “Кристаллизация бинарных расплавов и распад пересыщенных твердых растворов при наличии стоков и источников тепла и вещества”, Физика твердого тела, 30:11 (1988), 3231–3235 |
73. |
В. Н. Бессолов, С. А. Кукушкин, М. В. Лебедев, Б. В. Царенков, “Релаксационная жидкостная эпитаксия, основанная на инверсии
массопереноса, и ее возможности для создания супертонких слоев A$^{3}$B$^{5}$”, ЖТФ, 58:8 (1988), 1507–1512 |
|
1987 |
74. |
С. А. Кукушкин, В. В. Слезов, “Кристаллизация бинарных расплавов и распад пересыщенных твердых растворов в неизотермических условиях”, Физика твердого тела, 29:12 (1987), 3657–3666 |
75. |
В. В. Слезов, С. А. Кукушкин, “К теории неизотермической коалесценции при распаде пересыщенных твердых растворов”, Физика твердого тела, 29:6 (1987), 1812–1818 |
|
1986 |
76. |
Г. Т. Айтиева, В. Н. Бессолов, А. Т. Денисова, С. Е. Клименко, С. А. Кукушкин, М. В. Лебедев, Б. В. Царенков, “Создание супертонких слоев GaAs на подложке GaAlAs жидкостной
эпитаксией”, ЖТФ, 56:5 (1986), 910–913 |
|
1985 |
77. |
С. А. Кукушкин, “Кинетика кристаллизации однокомпонентных расплавов”, Физика твердого тела, 27:10 (1985), 2987–2991 |
|