Аннотация:
Впервые выращен эпитаксиальный теллурид кадмия толщиной 1–3 $\mu$m на кремнии с буферным слоем карбида кремния методом открытого термического испарения и конденсации в вакууме. Оптимальная температура подложки составила 500$^\circ$C при температуре испарителя 580$^\circ$C, время роста 4 s. Для более качественного роста теллурида кадмия на поверхности кремния предварительно был синтезирован методом топохимического замещения атомов высококачественный буферный слой карбида кремния толщиной $\sim$100 nm. Эллипсометрический, рамановский, рентгеновский и электронографический анализ показали высокое структурное совершенство слоя CdTe и отсутствие поликристаллической фазы.
Образец цитирования:
В. В. Антипов, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Эпитаксиальный рост пленок теллурида кадмия на кремнии с буферным слоем карбида кремния”, Физика твердого тела, 59:2 (2017), 385–388; Phys. Solid State, 59:2 (2017), 399–402
\RBibitem{AntKukOsi17}
\by В.~В.~Антипов, С.~А.~Кукушкин, А.~В.~Осипов
\paper Эпитаксиальный рост пленок теллурида кадмия на кремнии с буферным слоем карбида кремния
\jour Физика твердого тела
\yr 2017
\vol 59
\issue 2
\pages 385--388
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/ftt9692}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTT.2017.02.44067.288}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=29006126}
\transl
\jour Phys. Solid State
\yr 2017
\vol 59
\issue 2
\pages 399--402
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063783417020020}
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ftt9692
https://www.mathnet.ru/rus/ftt/v59/i2/p385
Эта публикация цитируется в следующих 5 статьяx:
S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Epitaxial Silicon Carbide on Silicon. Method of Coordinated Substitution of Atoms (A Review)”, Russ J Gen Chem, 92:4 (2022), 584
Sergey Kukushkin, Andrey Osipov, Alexey Redkov, Advanced Structured Materials, 164, Mechanics and Control of Solids and Structures, 2022, 335
S. P. Bogdanov, N. M. Sergeeva, “Threaded Polycrystals Na2SO4/Cd0.1Zn0.9S: Cu, Аg on the Surface of the New Material Si/(nano SiС)”, Mech. Solids, 55:1 (2020), 45
В. В. Антипов, С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, В. П. Рубец, “Эпитаксиальный рост пленок селенида кадмия на кремнии с буферным слоем карбида кремния”, Физика твердого тела, 60:3 (2018), 499–504; V. V. Antipov, S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, V. P. Rubets, “Epitaxial growth of cadmium selenide films on silicon with a silicon carbide buffer layer”, Phys. Solid State, 60:3 (2018), 504–509
A A Koryakin, S A Kukushkin, A V Redkov, “Nucleation of CdSe thin films: the kinetic model”, J. Phys.: Conf. Ser., 1124 (2018), 022044