Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Письма в Журнал технической физики, 2021, том 47, выпуск 19, страницы 51–54
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2021.19.51516.18879
(Mi pjtf4672)
 

Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)

Термодинамическая стабильность твердых растворов In$_{x}$Ga$_{1-x}$N

С. А. Кукушкинa, А. В. Осиповb

a Санкт-Петербургский государственный университет
b Институт проблем машиноведения РАН, г. Санкт-Петербург
Аннотация: Выполнен теоретико-групповой анализ твердых растворов нитридов индия и галлия In$_{x}$Ga$_{1-x}$N (0 $<x<$ 1) и найдены все основные группы симметрии для данных растворов с составом $x$, представимым в виде рациональной дроби. Методом функционала плотности рассчитаны термодинамические потенциалы основных фаз. Показано, что при малых и больших $x$, т. е. при 0 $<x<$ 0.2 и 0.8 $<x<$ 1, имеется большое количество моноклинных фаз $Pm$ и $P2_{1}$, которые являются стабильными по отношению к распаду на InN и GaN при комнатной температуре. В интервале 0.2 $<x<$ 0.8 имеются лишь две стабильные орторомбические фазы Cmc2$_{1}$ с составами $x$ = 1/3 и 2/3. Рассчитаны все основные геометрические и термодинамические свойства различных фаз In$_{x}$Ga$_{1-x}$N. Установлено, что стабильность эпитаксиальных пленок In$_{x}$Ga$_{1-x}$N повышается при росте на InN и уменьшается при росте на GaN.
Ключевые слова: метод функционала плотности, полупроводники, твердые растворы, гетероструктуры.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский научный фонд 19-72-30004
Министерство образования и науки Российской Федерации FFNF-2021-0001
С.А. Кукушкин выполнял свою часть работы в рамках гранта РНФ № 19-72-30004. А.В. Осипов выполнял свою часть работы при поддержке Министерства науки и высшего образования РФ в рамках государственного задания ФГУП ИПМаш РАН по контракту № FFNF-2021-0001.
Поступила в редакцию: 19.05.2021
Исправленный вариант: 20.06.2021
Принята в печать: 02.07.2021
Англоязычная версия:
Technical Physics Letters, 2022
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785022030075
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, “Термодинамическая стабильность твердых растворов In$_{x}$Ga$_{1-x}$N”, Письма в ЖТФ, 47:19 (2021), 51–54
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{KukOsi21}
\by С.~А.~Кукушкин, А.~В.~Осипов
\paper Термодинамическая стабильность твердых растворов In$_{x}$Ga$_{1-x}$N
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2021
\vol 47
\issue 19
\pages 51--54
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf4672}
\crossref{https://doi.org/10.21883/PJTF.2021.19.51516.18879}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=46549190}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf4672
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v47/i19/p51
  • Эта публикация цитируется в следующих 2 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:68
    PDF полного текста:27
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024