Аннотация:
Обнаружен эффект изменения направления распространения дислокации несоответствия при росте слоев GaN на поверхности структуры AlN/SiC/Si(111). Эффект заключается в том, что при достижении слоем GaN, растущим на AlN/SiC/Si(111) определенной толщины ∼300 nm, дислокации несоответствия первоначально, распространяющиеся вдоль оси роста слоя останавливаются и начинают двигаться в перпендикулярном к оси роста направлению. Построена теоретическая модель зарождения AlN и GaN на грани (111) SiC/Si, объясняющая эффект изменения направления движения дислокации несоответствия. Обнаружен экспериментально и объяснен теоретически эффект смены механизма зарождения с островкового для AlN на SiC/Si(111) на послойный при зарождении слоя GaN на AlN/SiC/Si.
Образец цитирования:
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, В. Н. Бессолов, Е. В. Коненкова, В. Н. Пантелеев, “Остановка и разворот дислокаций несоответствия при росте нитрида галлия на подложках SiC/Si”, Физика твердого тела, 59:4 (2017), 660–667; Phys. Solid State, 59:4 (2017), 674–681
\RBibitem{KukOsiBes17}
\by С.~А.~Кукушкин, А.~В.~Осипов, В.~Н.~Бессолов, Е.~В.~Коненкова, В.~Н.~Пантелеев
\paper Остановка и разворот дислокаций несоответствия при росте нитрида галлия на подложках SiC/Si
\jour Физика твердого тела
\yr 2017
\vol 59
\issue 4
\pages 660--667
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/ftt9603}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTT.2017.04.44266.287}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=29257175}
\transl
\jour Phys. Solid State
\yr 2017
\vol 59
\issue 4
\pages 674--681
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063783417040114}
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ftt9603
https://www.mathnet.ru/rus/ftt/v59/i4/p660
Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, “Epitaxial Silicon Carbide on Silicon. Method of Coordinated Substitution of Atoms (A Review)”, Russ J Gen Chem, 92:4 (2022), 584
Sergey Kukushkin, Andrey Osipov, Alexey Redkov, Advanced Structured Materials, 164, Mechanics and Control of Solids and Structures, 2022, 335
С. А. Кукушкин, Ш. Ш. Шарофидинов, А. В. Осипов, А. С. Гращенко, А. В. Кандаков, Е. В. Осипова, К. П. Котляр, Е. В. Убыйвовк, “Самоорганизация состава пленок AlxGa1−xN, выращенных на гибридных подложках SiC/Si”, Физика твердого тела, 63:3 (2021), 363–369; S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, A. V. Osipov, A. S. Grashchenko, A. V. Kandakov, E. V. Osipova, K. P. Kotlyar, E. V. Ubyivovk, “Self-organization of the composition of AlxGa1−xN films grown on hybrid SiC/Si substrates”, Phys. Solid State, 63:3 (2021), 442–448
Andrey Tumarkin, Alexander Gagarin, Michail Zlygostov, Evgeny Sapego, Andrey Altynnikov, “Heterostructures “Ferroelectric Film/Silicon Carbide” for High Power Microwave Applications”, Coatings, 10:3 (2020), 247