|
|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2021 |
| 1. |
А. М. Смирнов, А. В. Кремлева, Ш. Ш. Шарофидинов, В. Е. Бугров, А. Е. Романов, “Релаксация напряжений несоответствия в гетероструктурах $\alpha$-Ga$_{2}$O$_{3}$/$\alpha$-Al$_{2}$O$_{3}$ при образовании дислокаций несоответствия”, Физика твердого тела, 63:6 (2021), 788–795   ; A. M. Smirnov, A. V. Kremleva, Sh. Sh. Sharofidinov, V. E. Bugrov, A. E. Romanov, “Misfit stress relaxation in $\alpha$-Ga$_{2}$O$_{3}$/$\alpha$-Al$_{2}$O$_{3}$ heterostructures via formation of misfit dislocations”, Phys. Solid State, 63:6 (2021), 924–931 |
3
|
| 2. |
С. А. Кукушкин, Ш. Ш. Шарофидинов, А. В. Осипов, А. С. Гращенко, А. В. Кандаков, Е. В. Осипова, К. П. Котляр, Е. В. Убыйвовк, “Самоорганизация состава пленок Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N, выращенных на гибридных подложках SiC/Si”, Физика твердого тела, 63:3 (2021), 363–369 ; S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, A. V. Osipov, A. S. Grashchenko, A. V. Kandakov, E. V. Osipova, K. P. Kotlyar, E. V. Ubyivovk, “Self-organization of the composition of Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N films grown on hybrid SiC/Si substrates”, Phys. Solid State, 63:3 (2021), 442–448 |
8
|
| 3. |
П. В. Середин, К. А. Барков, Д. Л. Голощапов, А. С. Леньшин, Ю. Ю. Худяков, И. Н. Арсентьев, А. А. Лебедев, Ш. Ш. Шарофидинов, А. М. Мизеров, И. А. Касаткин, T. Prutskij, “Влияние предобработки подложки кремния на свойства пленок GaN, выращенных методом хлорид-гидридной газофазной эпитаксии”, Физика и техника полупроводников, 55:8 (2021), 704–710 ; P. V. Seredin, K. A. Barkov, D. L. Goloshchapov, A. S. Len'shin, Yu. Yu. Khudyakov, I. N. Arsent'ev, A. A. Lebedev, Sh. Sh. Sharofidinov, A. M. Mizerov, I. A. Kasatkin, T. Prutskij, “Effect of pretreatment of the silicon substrate on the properties of GaN films grown by chloride–hydride vapor-phase epitaxy”, Semiconductors, 55:12 (2021), 995–1001 |
| 4. |
А. В. Солнышкин, О. Н. Сергеева, О. А. Шустова, Ш. Ш. Шарофидинов, М. В. Старицын, Е. Ю. Каптелов, С. А. Кукушкин, И. П. Пронин, “Диэлектрические и пироэлектрические свойства композитов на основе нитридов алюминия и галлия, выращенных методом хлорид-гидридной эпитаксии на подложке карбида кремния на кремнии”, Письма в ЖТФ, 47:9 (2021), 7–10 ; A. V. Solnyshkin, O. N. Sergeeva, O. A. Shustova, Sh. Sh. Sharofidinov, M. V. Staritsyn, E. Yu. Kaptelov, S. A. Kukushkin, I. P. Pronin, “Dielectric and pyroelectric properties of composites based on aluminum and gallium nitrides grown by chloride-hydride epitaxy on a silicon carbide-on-silicon substrate”, Tech. Phys. Lett., 47:6 (2021), 466–469 |
5
|
|
2020 |
| 5. |
Е. А. Панютин, Ш. Ш. Шарофидинов, Т. А. Орлова, С. А. Сныткина, А. А. Лебедев, “Бипланарные эпитаксиальные AlN/SiC/$(n,p)$SiC-структуры для приборов высокотемпературной функциональной электроники”, ЖТФ, 90:3 (2020), 450–455 ; E. A. Panyutin, Sh. Sh. Sharofidinov, T. A. Orlova, S. A. Snytkina, A. A. Lebedev, “Biplanar epitaxial AlN/SiC/$(n,p)$SiC structures for high-temperature functional electronic devices”, Tech. Phys., 65:3 (2020), 428–433 |
4
|
| 6. |
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, А. В. Редьков, Ш. Ш. Шарофидинов, “Рост объемных эпитаксиальных пленок AlN полуполярной ориентации на подложках Si (001) и гибридных подложках SiC/Si (001)”, Письма в ЖТФ, 46:11 (2020), 22–25 ; S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, A. V. Redkov, Sh. Sh. Sharofidinov, “Epitaxial growth of bulk semipolar aln films on Si(001) and hybrid SiC/Si(001) substrates”, Tech. Phys. Lett., 46:6 (2020), 539–542 |
5
|
| 7. |
Г. А. Гаврилов, К. Л. Муратиков, Е. А. Панютин, Г. Ю. Сотникова, Ш. Ш. Шарофидинов, “Особенности пироэффекта в эпитаксиальных слоях нитрида алюминия, полученных на Si-подложках”, Письма в ЖТФ, 46:1 (2020), 20–23 ; G. A. Gavrilov, K. L. Muratikov, E. A. Panyutin, G. Yu. Sotnikova, Sh. Sh. Sharofidinov, “Specific features of the pyroelectric effect in epitaxial aluminum nitride layers obtained on Si substrates”, Tech. Phys. Lett., 46:1 (2020), 16–18 |
2
|
|
2019 |
| 8. |
О. Н. Сергеева, А. В. Солнышкин, Д. А. Киселев, Т. С. Ильина, С. А. Кукушкин, Ш. Ш. Шарофидинов, Е. Ю. Каптелов, И. П. Пронин, “Влияние ориентации кремниевой подложки с буферным подслоем карбида кремния на диэлектрические и полярные свойства пленок нитрида алюминия”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2379–2384 ; O. N. Sergeeva, A. V. Solnyshkin, D. A. Kiselev, T. S. Ilina, S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, E. Yu. Kaptelov, I. P. Pronin, “Influence of orientation of a silicon substrate with a buffer silicon carbide layer on dielectric and polar properties of aluminum nitride films”, Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2386–2391 |
8
|
| 9. |
С. А. Кукушкин, Ш. Ш. Шарофидинов, “Новый метод получения объемных кристаллов AlN, GaN и AlGaN с использованием гибридных подложек SiC/Si”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2338–2343 ; S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, “A new method of growing AlN, GaN, and AlGaN bulk crystals using hybrid SiC/Si substrates”, Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2342–2347 |
16
|
| 10. |
А. М. Мизеров, С. А. Кукушкин, Ш. Ш. Шарофидинов, А. В. Осипов, С. Н. Тимошнев, К. Ю. Шубина, Т. Н. Березовская, Д. В. Мохов, А. Д. Буравлев, “Метод управления полярностью слоев GaN при эпитаксиальном синтезе GaN/AlN гетероструктур на гибридных подложках SiC/Si”, Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2289–2293 ; A. M. Mizerov, S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, A. V. Osipov, S. N. Timoshnev, K. Yu. Shubina, T. N. Berezovskaya, D. V. Mokhov, A. D. Bouravlev, “Method for controlling the polarity of gallium nitride layers in epitaxial synthesis of GaN/AlN heterostructures on hybrid SiC/Si substrates”, Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2277–2281 |
4
|
| 11. |
Ш. Ш. Шарофидинов, С. А. Кукушкин, А. В. Редьков, А. С. Гращенко, А. В. Осипов, “Рост полупроводниковых III–V гетероструктур на подложках SiC/Si”, Письма в ЖТФ, 45:14 (2019), 24–27 ; Sh. Sh. Sharofidinov, S. A. Kukushkin, A. V. Redkov, A. S. Grashchenko, A. V. Osipov, “Growing III–V semiconductor heterostructures on SiC/Si substrates”, Tech. Phys. Lett., 45:7 (2019), 711–713 |
16
|
|
2018 |
| 12. |
Г. А. Гаврилов, А. Ф. Капралов, К. Л. Муратиков, Е. А. Панютин, А. В. Сотников, Г. Ю. Сотникова, Ш. Ш. Шарофидинов, “Исследование пироэффекта в AlN-эпитаксиальных слоях”, Письма в ЖТФ, 44:16 (2018), 11–19 ; G. A. Gavrilov, A. F. Kapralov, K. L. Muratikov, E. A. Panyutin, A. V. Sotnikov, G. Yu. Sotnikova, Sh. Sh. Sharofidinov, “Studying the pyroelectric effect in AlN epilayers”, Tech. Phys. Lett., 44:8 (2018), 709–712 |
11
|
|
2016 |
| 13. |
В. И. Николаев, А. И. Печников, С. И. Степанов, Ш. Ш. Шарофидинов, А. А. Головатенко, И. П. Никитина, А. Н. Смирнов, В. Е. Бугров, А. Е. Романов, П. Н. Брунков, Д. А. Кириленко, “Хлоридная эпитаксия слоев $\beta$-Ga$_{2}$O$_{3}$ на сапфировых подложках базисной ориентации”, Физика и техника полупроводников, 50:7 (2016), 997–1000 ; V. I. Nikolaev, A. I. Pechnikov, S. I. Stepanov, Sh. Sh. Sharofidinov, A. A. Golovatenko, I. P. Nikitina, A. N. Smirnov, V. E. Bugrov, A. E. Romanov, P. N. Brunkov, D. A. Kirilenko, “Chloride epitaxy of $\beta$-Ga$_{2}$O$_{3}$ layers grown on $c$-sapphire substrates”, Semiconductors, 50:7 (2016), 980–983 |
5
|
| 14. |
Ш. Ш. Шарофидинов, В. И. Николаев, А. Н. Смирнов, А. В. Чикиряка, И. П. Никитина, М. А. Одноблюдов, В. Е. Бугров, А. Е. Романов, “Снижение трещинообразования при росте AlN на подложках Si методом хлоридно-гидридной эпитаксии”, Физика и техника полупроводников, 50:4 (2016), 549–552 ; Sh. Sh. Sharofidinov, V. I. Nikolaev, A. N. Smirnov, A. V. Chikiryaka, I. P. Nikitina, M. A. Odnoblyudov, V. E. Bugrov, A. E. Romanov, “On a reduction in cracking upon the growth of AlN on Si substrates by hydride vapor-phase epitaxy”, Semiconductors, 50:4 (2016), 541–544 |
4
|
|
Обратная связь: