Persons
RUS  ENG    JOURNALS   PEOPLE   ORGANISATIONS   CONFERENCES   SEMINARS   VIDEO LIBRARY   PACKAGE AMSBIB  
 
Sharofidinov, Shukrillo Shamsidinovich

Statistics Math-Net.Ru
Total publications: 14
Scientific articles: 14

Number of views:
This page:95
Abstract pages:832
Full texts:280
Candidate of technical sciences

https://www.mathnet.ru/eng/person182797
List of publications on Google Scholar
List of publications on ZentralBlatt

Publications in Math-Net.Ru Citations
2021
1. A. M. Smirnov, A. V. Kremleva, Sh. Sh. Sharofidinov, V. E. Bugrov, A. E. Romanov, “Misfit stress relaxation in $\alpha$-Ga$_{2}$O$_{3}$/$\alpha$-Al$_{2}$O$_{3}$ heterostructures via formation of misfit dislocations”, Fizika Tverdogo Tela, 63:6 (2021),  788–795  mathnet  elib; Phys. Solid State, 63:6 (2021), 924–931 3
2. S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, A. V. Osipov, A. S. Grashchenko, A. V. Kandakov, E. V. Osipova, K. P. Kotlyar, E. V. Ubyivovk, “Self-organization of the composition of Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N films grown on hybrid SiC/Si substrates”, Fizika Tverdogo Tela, 63:3 (2021),  363–369  mathnet  elib; Phys. Solid State, 63:3 (2021), 442–448 8
3. P. V. Seredin, K. A. Barkov, D. L. Goloshchapov, A. S. Len'shin, Yu. Yu. Khudyakov, I. N. Arsent'ev, A. A. Lebedev, Sh. Sh. Sharofidinov, A. M. Mizerov, I. A. Kasatkin, T. Prutskij, “Effect of pretreatment of the silicon substrate on the properties of GaN films grown by chloride–hydride vapor-phase epitaxy”, Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov, 55:8 (2021),  704–710  mathnet  elib; Semiconductors, 55:12 (2021), 995–1001
4. A. V. Solnyshkin, O. N. Sergeeva, O. A. Shustova, Sh. Sh. Sharofidinov, M. V. Staritsyn, E. Yu. Kaptelov, S. A. Kukushkin, I. P. Pronin, “Dielectric and pyroelectric properties of composites based on aluminum and gallium nitrides grown by chloride-hydride epitaxy on a silicon carbide-on-silicon substrate”, Pisma v Zhurnal Tekhnicheskoi Fiziki, 47:9 (2021),  7–10  mathnet  elib; Tech. Phys. Lett., 47:6 (2021), 466–469 5
2020
5. E. A. Panyutin, Sh. Sh. Sharofidinov, T. A. Orlova, S. A. Snytkina, A. A. Lebedev, “Biplanar epitaxial AlN/SiC/$(n,p)$SiC structures for high-temperature functional electronic devices”, Zhurnal Tekhnicheskoi Fiziki, 90:3 (2020),  450–455  mathnet  elib; Tech. Phys., 65:3 (2020), 428–433 4
6. S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, A. V. Redkov, Sh. Sh. Sharofidinov, “Epitaxial growth of bulk semipolar aln films on Si(001) and hybrid SiC/Si(001) substrates”, Pisma v Zhurnal Tekhnicheskoi Fiziki, 46:11 (2020),  22–25  mathnet  elib; Tech. Phys. Lett., 46:6 (2020), 539–542 5
7. G. A. Gavrilov, K. L. Muratikov, E. A. Panyutin, G. Yu. Sotnikova, Sh. Sh. Sharofidinov, “Specific features of the pyroelectric effect in epitaxial aluminum nitride layers obtained on Si substrates”, Pisma v Zhurnal Tekhnicheskoi Fiziki, 46:1 (2020),  20–23  mathnet  elib; Tech. Phys. Lett., 46:1 (2020), 16–18 2
2019
8. O. N. Sergeeva, A. V. Solnyshkin, D. A. Kiselev, T. S. Ilina, S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, E. Yu. Kaptelov, I. P. Pronin, “Influence of orientation of a silicon substrate with a buffer silicon carbide layer on dielectric and polar properties of aluminum nitride films”, Fizika Tverdogo Tela, 61:12 (2019),  2379–2384  mathnet  elib; Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2386–2391 8
9. S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, “A new method of growing AlN, GaN, and AlGaN bulk crystals using hybrid SiC/Si substrates”, Fizika Tverdogo Tela, 61:12 (2019),  2338–2343  mathnet  elib; Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2342–2347 16
10. A. M. Mizerov, S. A. Kukushkin, Sh. Sh. Sharofidinov, A. V. Osipov, S. N. Timoshnev, K. Yu. Shubina, T. N. Berezovskaya, D. V. Mokhov, A. D. Bouravlev, “Method for controlling the polarity of gallium nitride layers in epitaxial synthesis of GaN/AlN heterostructures on hybrid SiC/Si substrates”, Fizika Tverdogo Tela, 61:12 (2019),  2289–2293  mathnet  elib; Phys. Solid State, 61:12 (2019), 2277–2281 4
11. Sh. Sh. Sharofidinov, S. A. Kukushkin, A. V. Redkov, A. S. Grashchenko, A. V. Osipov, “Growing III–V semiconductor heterostructures on SiC/Si substrates”, Pisma v Zhurnal Tekhnicheskoi Fiziki, 45:14 (2019),  24–27  mathnet  elib; Tech. Phys. Lett., 45:7 (2019), 711–713 16
2018
12. G. A. Gavrilov, A. F. Kapralov, K. L. Muratikov, E. A. Panyutin, A. V. Sotnikov, G. Yu. Sotnikova, Sh. Sh. Sharofidinov, “Studying the pyroelectric effect in AlN epilayers”, Pisma v Zhurnal Tekhnicheskoi Fiziki, 44:16 (2018),  11–19  mathnet  elib; Tech. Phys. Lett., 44:8 (2018), 709–712 11
2016
13. V. I. Nikolaev, A. I. Pechnikov, S. I. Stepanov, Sh. Sh. Sharofidinov, A. A. Golovatenko, I. P. Nikitina, A. N. Smirnov, V. E. Bugrov, A. E. Romanov, P. N. Brunkov, D. A. Kirilenko, “Chloride epitaxy of $\beta$-Ga$_{2}$O$_{3}$ layers grown on $c$-sapphire substrates”, Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov, 50:7 (2016),  997–1000  mathnet  elib; Semiconductors, 50:7 (2016), 980–983 5
14. Sh. Sh. Sharofidinov, V. I. Nikolaev, A. N. Smirnov, A. V. Chikiryaka, I. P. Nikitina, M. A. Odnoblyudov, V. E. Bugrov, A. E. Romanov, “On a reduction in cracking upon the growth of AlN on Si substrates by hydride vapor-phase epitaxy”, Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov, 50:4 (2016),  549–552  mathnet  elib; Semiconductors, 50:4 (2016), 541–544 4

Organisations
 
  Contact us:
 Terms of Use  Registration to the website  Logotypes © Steklov Mathematical Institute RAS, 2024