|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2023 |
1. |
Е. А. Баранов, В. А. Непомнящих, В. О. Константинов, В. Г. Щукин, И. Е. Меркулова, А. О. Замчий, Н. А. Лунев, В. А. Володин, А. А. Шаповалова, “Влияние плотности тока на структуру тонких пленок аморфного субоксида кремния при электронно-пучковом отжиге”, Прикл. мех. техн. физ., 64:5 (2023), 52–58 ; E. A. Baranov, V. A. Nepomnyashchikh, V. O. Konstantinov, V. G. Shchukin, I. E. Merkulova, A. O. Zamchiy, N. A. Lunev, V. A. Volodin, A. A. Shapovalova, “Influence of current density on the structure of thin films of amorphous silicon suboxide during electron beam annealing”, J. Appl. Mech. Tech. Phys., 64:5 (2024), 778–783 |
|
2022 |
2. |
Е. А. Баранов, А. О. Замчий, Н. А. Лунев, И. Е. Меркулова, В. А. Володин, М. Р. Шарафутдинов, А. А. Шаповалова, “Высокотемпературный отжиг тонких пленок субоксида кремния, полученных методом газоструйного химического осаждения с активацией электронно-пучковой плазмой”, Прикл. мех. техн. физ., 63:5 (2022), 33–41 ; E. A. Baranov, A. O. Zamchiy, N. A. Lunev, I. E. Merkulova, V. A. Volodin, M. R. Sharafutdinov, A. A. Shapovalova, “High-temperature annealing of thin silicon suboxide films produced by the method of gas-jet chemical deposition with activation by electron-beam plasma”, J. Appl. Mech. Tech. Phys., 63:5 (2022), 757–764 |
1
|
|
2021 |
3. |
И. Е. Меркулова, А. О. Замчий, Н. А. Лунев, В. О. Константинов, Е. А. Баранов, “Влияние температуры отжига на кинетику процесса алюминий-индуцированной кристаллизации тонких пленок аморфного субоксида кремния”, Письма в ЖТФ, 47:21 (2021), 39–42 |
4. |
Н. А. Лунев, А. О. Замчий, Е. А. Баранов, И. Е. Меркулова, В. О. Константинов, И. В. Корольков, Е. А. Максимовский, В. А. Володин, “Золото-индуцированная кристаллизация тонких пленок аморфного субоксида кремния”, Письма в ЖТФ, 47:14 (2021), 35–38 ; N. A. Lunev, A. O. Zamchiy, E. A. Baranov, I. E. Merkulova, V. O. Konstantinov, I. V. Korolkov, E. A. Maximovskiy, V. A. Volodin, “Gold-induced crystallization of thin films of amorphous silicon suboxide”, Tech. Phys. Lett., 47:10 (2021), 726–729 |
3
|
5. |
Е. А. Баранов, В. О. Константинов, В. Г. Щукин, А. О. Замчий, И. Е. Меркулова, Н. А. Лунёв, В. А. Володин, “Электронно-пучковая кристаллизация тонких пленок аморфного субоксида кремния”, Письма в ЖТФ, 47:6 (2021), 26–28 ; E. A. Baranov, V. O. Konstantinov, V. G. Shchukin, A. O. Zamchiy, I. E. Merkulova, N. A. Lunev, V. A. Volodin, “Electron-beam crystallization of thin films of amorphous silicon suboxide”, Tech. Phys. Lett., 47:3 (2021), 263–265 |
1
|
|
2020 |
6. |
А. О. Замчий, Е. А. Баранов, И. Е. Меркулова, Н. А. Лунев, В. А. Володин, Е. А. Максимовский, “Индий-индуцированная кристаллизация тонких пленок аморфного субоксида кремния”, Письма в ЖТФ, 46:12 (2020), 14–17 ; A. O. Zamchiy, E. A. Baranov, I. E. Merkulova, N. A. Lunev, V. A. Volodin, E. A. Maximovskiy, “Indium-induced crystallization of thin films of amorphous silicon suboxide”, Tech. Phys. Lett., 46:6 (2020), 583–586 |
2
|
|