Персоналии
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
 
Левашов Сергей Александрович

В базах данных Math-Net.Ru
Публикаций: 8
Научных статей: 8

Статистика просмотров:
Эта страница:44
Страницы публикаций:283
Полные тексты:94
Списки литературы:20
E-mail:

https://www.mathnet.ru/rus/person187212
Список публикаций на Google Scholar
Список публикаций на ZentralBlatt

Публикации в базе данных Math-Net.Ru Цитирования
2020
1. М. С. Афанасьев, Д. А. Киселев, С. А. Левашов, А. А. Сивов, Г. В. Чучева, “Создание и исследования структур металл–диэлектрик–полупроводник на основе сегнетоэлектрических пленок”, Физика твердого тела, 62:3 (2020),  422–426  mathnet  elib; M. S. Afanasiev, D. A. Kiselev, S. A. Levashov, A. A. Sivov, G. V. Chucheva, “Creation and investigation of metal–dielectric–semiconductor structures based on ferroelectric films”, Phys. Solid State, 62:3 (2020), 480–484
2019
2. М. С. Афанасьев, Д. А. Киселев, С. А. Левашов, А. А. Сивов, Г. В. Чучева, “Влияние температуры синтеза на микроструктуру и электрофизические свойства пленок BST 80/20”, Физика твердого тела, 61:10 (2019),  1948–1952  mathnet  elib; M. S. Afanasiev, D. A. Kiselev, S. A. Levashov, A. A. Sivov, G. V. Chucheva, “The effect of synthesis temperature on the microstructure and electrophysical properties of BST 80/20 films”, Phys. Solid State, 61:10 (2019), 1910–1914 4
3. Е. И. Гольдман, С. А. Левашов, Г. В. Чучева, “Особенности характеристик устойчивых к полевым повреждениям структур кремний–сверхтонкий окисел–поликремний”, Физика и техника полупроводников, 53:4 (2019),  481–484  mathnet  elib; E. I. Goldman, S. A. Levashov, G. V. Chucheva, “Features of the characteristics of field-resistant silicon–ultrathin oxide–polysilicon structures”, Semiconductors, 53:4 (2019), 465–468 6
4. Е. И. Гольдман, Н. Ф. Кухарская, С. А. Левашов, Г. В. Чучева, “Определение параметров структур металл–диэлектрик–полупроводник со сверхтонким изолирующим слоем из высокочастотных вольт-фарадных характеристик”, Физика и техника полупроводников, 53:1 (2019),  46–49  mathnet  elib; E. I. Goldman, N. F. Kuharskaya, S. A. Levashov, G. V. Chucheva, “Determination of the parameters of metal–insulator–semiconductor structures with ultrathin insulating layer from high-frequency capacitance–voltage measurements”, Semiconductors, 53:1 (2019), 42–45 6
2018
5. М. С. Афанасьев, Д. А. Киселев, С. А. Левашов, В. А. Лузанов, А. Э. Набиев, В. Г. Нарышкина, А. А. Сивов, Г. В. Чучева, “Влияние материала подложки на структуру и электрофизические свойства тонких пленок Ba$_{x}$Sr$_{1-x}$TiO$_{3}$”, Физика твердого тела, 60:5 (2018),  951–954  mathnet  elib; M. S. Afanasiev, D. A. Kiselev, S. A. Levashov, V. A. Luzanov, A. E. Nabiyev, V. G. Naryshkina, A. A. Sivov, G. V. Chucheva, “The influence of the substrate material on the structure and electrophysical properties of Ba$_{x}$Sr$_{1-x}$TiO$_{3}$ thin films”, Phys. Solid State, 60:5 (2018), 954–957 3
2017
6. Е. И. Гольдман, С. А. Левашов, В. Г. Нарышкина, Г. В. Чучева, “Генерация поверхностных электронных состояний на границе раздела кремний–сверхтонкий окисел в процессе полевого повреждения структур металл–окисел–полупроводник”, Физика и техника полупроводников, 51:9 (2017),  1185–1188  mathnet  elib; E. I. Goldman, S. A. Levashov, V. G. Naryshkina, G. V. Chucheva, “Generation of surface electron states with a silicon–ultrathin-oxide interface under the field-induced damage of metal–oxide–semiconductor structures”, Semiconductors, 51:9 (2017), 1136–1140 9
2013
7. М. С. Афанасьев, С. А. Левашов, А. Ю. Митягин, Г. В. Чучева, А. Э. Набиев, “Расчёт теплофизических параметров и технология формирования МПЛ СВЧ диапазона”, Изв. Сарат. ун-та. Нов. cер. Сер. Физика, 13:1 (2013),  9–12  mathnet
2012
8. Г. В. Чучева, М. С. Афанасьев, И. А. Анисимов, А. И. Георгиева, С. А. Левашов, А. Э. Набиев, “Определение параметров планарных конденсаторов на основе тонкопленочных сегнетоэлектрических материалов”, Изв. Сарат. ун-та. Нов. cер. Сер. Физика, 12:2 (2012),  8–11  mathnet

Организации
 
  Обратная связь:
 Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024