|
|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2019 |
| 1. |
А. В. Фадеев, Ю. Н. Девятко, “Модель термического окисления кремния”, ЖТФ, 89:4 (2019), 620–626   ; A. V. Fadeev, Yu. N. Devyatko, “Model for thermal oxidation of silicon”, Tech. Phys., 64:4 (2019), 575–581 |
3
|
|
2018 |
| 2. |
А. В. Фадеев, К. В. Руденко, “Атомно-слоевое осаждение тонких пленок на 3$D$-наноструктуры: влияние наклона стенок и аспектного отношения тренчей”, ЖТФ, 88:10 (2018), 1573–1580 ; A. V. Fadeev, K. V. Rudenko, “Atomic layer deposition of thin films onto 3$D$ nanostructures: the effect of wall tilt angle and aspect ratio of trenches”, Tech. Phys., 63:10 (2018), 1525–1532 |
2
|
| 3. |
А. В. Фадеев, К. В. Руденко, “Аналитическая модель атомно-слоевого осаждения тонких пленок на стенки цилиндрических отверстий с высоким аспектным отношением”, ЖТФ, 88:8 (2018), 1264–1272 ; A. V. Fadeev, K. V. Rudenko, “Analytical model for atomic-layer deposition of thin films on the walls of cylindrical holes with a relatively high aspect ratio”, Tech. Phys., 63:8 (2018), 1228–1235 |
3
|
|
Обратная связь: