Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Журнал технической физики, 2018, том 88, выпуск 10, страницы 1573–1580
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2018.10.46504.2550
(Mi jtf5803)
 

Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)

Физическая электроника

Атомно-слоевое осаждение тонких пленок на 3$D$-наноструктуры: влияние наклона стенок и аспектного отношения тренчей

А. В. Фадеев, К. В. Руденко

Физико-технологический институт РАН, г. Москва
Аннотация: Развита теоретическая модель, предсказывающая пространственный профиль пленки, выращиваемой на стенках методом атомно-слоевого осаждения. Модель учитывает возможность исходного отклонения стенок тренча от вертикали, а также динамическое изменение аспектного отношения структуры по мере роста пленки в наноразмерных тренчах. Теоретически исследована зависимость результирующей толщины и конформности пленки от параметров процесса атомно-слоевого осаждения.
Поступила в редакцию: 10.11.2017
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2018, Volume 63, Issue 10, Pages 1525–1532
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784218100092
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. В. Фадеев, К. В. Руденко, “Атомно-слоевое осаждение тонких пленок на 3$D$-наноструктуры: влияние наклона стенок и аспектного отношения тренчей”, ЖТФ, 88:10 (2018), 1573–1580; Tech. Phys., 63:10 (2018), 1525–1532
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{FadRud18}
\by А.~В.~Фадеев, К.~В.~Руденко
\paper Атомно-слоевое осаждение тонких пленок на 3$D$-наноструктуры: влияние наклона стенок и аспектного отношения тренчей
\jour ЖТФ
\yr 2018
\vol 88
\issue 10
\pages 1573--1580
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf5803}
\crossref{https://doi.org/10.21883/JTF.2018.10.46504.2550}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=36904525}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2018
\vol 63
\issue 10
\pages 1525--1532
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784218100092}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf5803
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v88/i10/p1573
  • Эта публикация цитируется в следующих 2 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Журнал технической физики Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:33
    PDF полного текста:17
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024