Старший научный сотрудник Физико-технологического института РАН. В 2006 году окончил Московский физико-технический институт, в 2009 г. защитил кандидатскую диссертацию. Область научных интересов: high-k диэлектрики, контактные системы для МОП-транзисторов, атомно-силовая микроскопия, CV-метрия.
A. E. Rogozhin, M. A. Bruk, E. N. Zhikharev, F. A. Sidorov, “Nanophotonic structure formation by dry e-beam etching of the resist: resolution limitation origins”, Компьютерная оптика, 41:4 (2017), 499–503
М. А. Брук, Е. Н. Жихарев, Д. Р. Стрельцов, В. А. Кальнов, А. В. Спирин, А. Е. Рогожин, “Некоторые особенности нового метода формирования микрорельефа путём прямого электронно-лучевого травления резиста”, Компьютерная оптика, 39:2 (2015), 204–210
Обратная связь: