Компьютерная оптика
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Компьютерная оптика:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Компьютерная оптика, 2015, том 39, выпуск 2, страницы 204–210
DOI: https://doi.org/10.18287/0134-2452-2015-39-2-204-210
(Mi co76)
 

Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

ДИФРАКЦИОННАЯ ОПТИКА, ОПТИЧЕСКИЕ ТЕХНОЛОГИИ

Некоторые особенности нового метода формирования микрорельефа путём прямого электронно-лучевого травления резиста

М. А. Брукa, Е. Н. Жихаревb, Д. Р. Стрельцовc, В. А. Кальновb, А. В. Спиринa, А. Е. Рогожинb

a Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л.Я. Карпова
b Физико-технологический институт Российской академии наук
c Институт синтетических полимерных материалов им. Н.С. Ениколопова Российской академии наук
Список литературы:
Аннотация: Представлены некоторые результаты, касающиеся механизма, особенностей и практических возможностей предложенного авторами прямого метода формирования изображения в некоторых позитивных резистах непосредственно в процессе экспонирования электронным лучом в вакууме. На примере резиста из полиметилметакрилата показано, в частности, что этот метод удобен для получения микро- и наноструктур со скруглённым профилем сечения, а также для получения пространственных 3D-структур с хорошей точностью вертикальных размеров изображения и низкой шероховатостью поверхности. Представленные данные в целом, по мнения авторов, указывают на потенциальные прикладные возможности предлагаемого метода, в частности, для изготовления дифракционных оптических элементов.
Ключевые слова: электронно-лучевая литография, новый сухой метод формирования микрорельефа, оптоэлектроника, дифракционные оптические элементы, 3D-структуры.
Поступила в редакцию: 09.12.2014
Исправленный вариант: 24.03.2015
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: М. А. Брук, Е. Н. Жихарев, Д. Р. Стрельцов, В. А. Кальнов, А. В. Спирин, А. Е. Рогожин, “Некоторые особенности нового метода формирования микрорельефа путём прямого электронно-лучевого травления резиста”, Компьютерная оптика, 39:2 (2015), 204–210
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{BruZhiStr15}
\by М.~А.~Брук, Е.~Н.~Жихарев, Д.~Р.~Стрельцов, В.~А.~Кальнов, А.~В.~Спирин, А.~Е.~Рогожин
\paper Некоторые особенности нового метода формирования микрорельефа путём прямого электронно-лучевого травления резиста
\jour Компьютерная оптика
\yr 2015
\vol 39
\issue 2
\pages 204--210
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/co76}
\crossref{https://doi.org/10.18287/0134-2452-2015-39-2-204-210}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/co76
  • https://www.mathnet.ru/rus/co/v39/i2/p204
  • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Компьютерная оптика
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:151
    PDF полного текста:61
    Список литературы:33
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024