|
Твердотельная электроника
Влияние площади контактов на мемристивные характеристики структур на основе парилена в одиночной и кроссбар-геометрии
Б. С. Швецовab, Г. А. Юкляевскихa, К. Ю. Черноглазовb, А. В. Емельяновb a Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, 119991 Москва, Россия
b Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", 123098 Москва, Россия
Аннотация:
Исследовано влияние площади и геометрии контактов на основные мемристивные характеристики структур на основе парилена. Показана независимость от площади контактов таких мемристивных характеристик, как напряжение переключений в низкоомное и высокоомное состояния, а также сопротивлений образцов в низкоомном состоянии. При этом сопротивления в высокоомном состоянии увеличиваются с уменьшением площади, что подтверждает однофиламентарную модель резистивных переключений, а также позволяет увеличить окно сопротивлений в таких структурах.
Ключевые слова:
мемристоры, резистивное переключение, нейроморфные системы, парилен.
Поступила в редакцию: 04.07.2023 Исправленный вариант: 20.09.2023 Принята в печать: 25.09.2023
Образец цитирования:
Б. С. Швецов, Г. А. Юкляевских, К. Ю. Черноглазов, А. В. Емельянов, “Влияние площади контактов на мемристивные характеристики структур на основе парилена в одиночной и кроссбар-геометрии”, ЖТФ, 93:11 (2023), 1610–1615
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf7127 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v93/i11/p1610
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 7 | PDF полного текста: | 3 |
|