|
Твердотельная электроника
Физические и химические закономерности импульсного микроплазменного формирования оксидных покрытий микронной точности
А. И. Мамаев, В. А. Мамаева, Ю. Н. Беспалова Национальный исследовательский Томский государственный университет, 634050 Томск, Россия
Аннотация:
Определены основные факторы влияния параметров импульсного микроплазменного оксидирования и режима движения электролита в гидродинамических пограничных слоях на физику и химию микроплазменных процессов в водных растворах электролитов. В результате математического моделирования микроплазменных процессов получено уравнение, связывающее параметры оксидирования, характеристики электролита, пространственные параметры, толщину пористого оксидного слоя и продолжительность горения разряда. Показано влияние вязкости и режима движения электролита на вольт-амперные характеристики, спектры отражения и структуру поверхности покрытий. Доказано, что импульсное микроплазменное оксидирование при малых длительностях импульса напряжения позволяет управлять характеристиками покрытия и создавать пористые структуры микронной точности заданного строения.
Ключевые слова:
оксидные покрытия, микроплазменное оксидирование, электролит, пористый слой, слой Прандтля.
Поступила в редакцию: 21.06.2023 Исправленный вариант: 26.09.2023 Принята в печать: 26.09.2023
Образец цитирования:
А. И. Мамаев, В. А. Мамаева, Ю. Н. Беспалова, “Физические и химические закономерности импульсного микроплазменного формирования оксидных покрытий микронной точности”, ЖТФ, 93:11 (2023), 1596–1609
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf7126 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v93/i11/p1596
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 10 | PDF полного текста: | 3 |
|