|
XXVII Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'' Н. Новгород, 13-16 марта, 2023 г.
Физическая электроника
Подложки для мягкой рентгеновской микроскопии на основе Si$_3$N$_4$ мембран
Д. Г. Реунов, Н. С. Гусев, М. С. Михайленко, Д. В. Петрова, И. В. Малышев, Н. И. Чхало Институт физики микроструктур РАН, 607680 Нижний Новгород, Россия
Аннотация:
Экспериментально были получены мембраны из нитрида кремния в качестве подложек для биологических образцов, которые исследованы на микроскопе с рабочей длиной волны 13.8 nm. Полученные свободно висящие пленки имели размер до 1.5 $\times$ 1.5 mm, что позволило выбрать интересную для исследования область на образце порядка десятков – сотен микрон. Механическая прочность мембран удовлетворяет требованию, чтобы образцы не рвали мембраны и выдерживали транспортировку. Полученные мембраны имеют прозрачность более 40% в диапазоне “окна прозрачности воды” (2.3–4.4 nm) и экстремальный ультрафиолет (13–15 nm).
Ключевые слова:
мембраны Si$_3$N$_4$, фотолитография, микроскопия мягкого рентгеновского излучения, экстремальная ультрафиолетовая микроскопия, корреляционная микроскопия.
Поступила в редакцию: 02.05.2023 Исправленный вариант: 02.05.2023 Принята в печать: 02.05.2023
Образец цитирования:
Д. Г. Реунов, Н. С. Гусев, М. С. Михайленко, Д. В. Петрова, И. В. Малышев, Н. И. Чхало, “Подложки для мягкой рентгеновской микроскопии на основе Si$_3$N$_4$ мембран”, ЖТФ, 93:7 (2023), 1032–1036
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf7046 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v93/i7/p1032
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 18 | PDF полного текста: | 2 |
|