|
|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2019 |
| 1. |
А. Г. Банщиков, Ю. Ю. Илларионов, М. И. Векслер, S. Wachter, Н. С. Соколов, “Характер изменения обратного тока в туннельных МДП-диодах с фторидом кальция на Si(111) при создании дополнительного оксидного слоя”, Физика и техника полупроводников, 53:6 (2019), 844–849   ; A. G. Banshchikov, Yu. Yu. Illarionov, M. I. Vexler, S. Wachter, N. S. Sokolov, “Trends in reverse-current change in tunnel MIS diodes with calcium fluoride on Si(111) upon the formation of an extra oxide layer”, Semiconductors, 53:6 (2019), 833–837 |
|
2018 |
| 2. |
С. Э. Тягинов, А. А. Макаров, B. Kaczer, M. Jech, A. Chasin, A. Grill, G. Hellings, М. И. Векслер, D. Linten, T. Grasser, “О влиянии параметров топологии транзистора с каналом в форме плавника на деградацию, вызываемую горячими носителями”, Физика и техника полупроводников, 52:13 (2018), 1631–1635 ; S. È. Tyaginov, A. A. Makarov, B. Kaczer, M. Jech, A. Chasin, A. Grill, G. Hellings, M. I. Vexler, D. Linten, T. Grasser, “Impact of the device geometric parameters on hot-carrier degradation in FinFETs”, Semiconductors, 52:13 (2018), 1738–1742 |
3
|
| 3. |
А. А. Макаров, С. Э. Тягинов, B. Kaczer, M. Jech, A. Chasin, A. Grill, G. Hellings, М. И. Векслер, D. Linten, T. Grasser, “Анализ особенностей деградации, вызываемой горячими носителями, в транзисторах с каналом в форме плавника”, Физика и техника полупроводников, 52:10 (2018), 1177–1182 ; A. A. Makarov, S. È. Tyaginov, B. Kaczer, M. Jech, A. Chasin, A. Grill, G. Hellings, M. I. Vexler, D. Linten, T. Grasser, “Analysis of the features of hot-carrier degradation in FinFETs”, Semiconductors, 52:10 (2018), 1298–1302 |
3
|
| 4. |
М. И. Векслер, “Моделирование туннельного переноса электронов в системе полупроводник–кристаллический диэлектрик–Si(111)”, Физика и техника полупроводников, 52:8 (2018), 900–905 ; M. I. Vexler, “Simulating tunneling electron transport in the semiconductor–crystalline insulator–Si(111) system”, Semiconductors, 52:8 (2018), 1031–1036 |
| 5. |
С. Э. Тягинов, А. А. Макаров, M. Jech, М. И. Векслер, J. Franco, B. Kaczer, T. Grasser, “Физические основы самосогласованного моделирования процессов генерации интерфейсных состояний и транспорта горячих носителей в транзисторах на базе структур металл–диэлектрик–кремний”, Физика и техника полупроводников, 52:2 (2018), 254–259 ; S. È. Tyaginov, A. A. Makarov, M. Jech, M. I. Vexler, J. Franco, B. Kaczer, T. Grasser, “Physical principles of self-consistent simulation of the generation of interface states and the transport of hot charge carriers in field-effect transistors based on metal–oxide–semiconductor structures”, Semiconductors, 52:2 (2018), 242–247 |
2
|
| 6. |
Ю. Ю. Илларионов, А. Г. Банщиков, Н. С. Соколов, S. Wachter, М. И. Векслер, “Немонотонное изменение туннельной проводимости МДП-структуры с двухслойным диэлектриком при увеличении его толщины (на примере системы металл/SiO$_{2}$/CaF$_{2}$/Si)”, Письма в ЖТФ, 44:24 (2018), 150–157 ; Yu. Yu. Illarionov, A. G. Banshchikov, N. S. Sokolov, S. Wachter, M. I. Vexler, “Nonmonotonic change in the tunnel conductivity of an MIS structure with a two-layer insulator with an increase in its thickness (by the example of the metal/SiO$_{2}$/CaF$_{2}$/Si system)”, Tech. Phys. Lett., 44:12 (2018), 1188–1191 |
2
|
|
2017 |
| 7. |
М. И. Векслер, Ю. Ю. Илларионов, И. В. Грехов, “Заряд квантовой ямы и распределение напряжения в структуре металл–диэлектрик–кремний при резонансном туннелировании электронов”, Физика и техника полупроводников, 51:4 (2017), 467–471 ; M. I. Vexler, Yu. Yu. Illarionov, I. V. Grekhov, “Quantum-well charge and voltage distribution in a metal–insulator–semiconductor structure upon resonant electron Tunneling”, Semiconductors, 51:4 (2017), 444–448 |
|
2016 |
| 8. |
М. И. Векслер, И. В. Грехов, “Специфика туннелирования носителей между валентной зоной кремния и металлом в приборах на основе структуры Al/high-$K$-oxide/SiO$_{2}$/Si”, Физика и техника полупроводников, 50:5 (2016), 683–688 ; M. I. Vexler, I. V. Grekhov, “Features of carrier tunneling between the silicon valence band and metal in devices based on the Al/high-$K$-oxide/SiO$_{2}$/Si structure”, Semiconductors, 50:5 (2016), 671–677 |
3
|
| 9. |
М. И. Векслер, Г. Г. Карева, Ю. Ю. Илларионов, И. В. Грехов, “Резонансное туннелирование электронов и связанные с ним зарядовые явления в наноструктурах металл–окисел–$p^{+}$-кремний”, Письма в ЖТФ, 42:21 (2016), 62–69 ; M. I. Vexler, G. G. Kareva, Yu. Yu. Illarionov, I. V. Grekhov, “Resonant electron tunneling and related charging phenomena in metal–oxide–$p^+$-Si nanostructures”, Tech. Phys. Lett., 42:11 (2016), 1090–1093 |
1
|
|
Обратная связь: