|
Эта публикация цитируется в 49 научных статьях (всего в 49 статьях)
ИЗ ТЕКУЩЕЙ ЛИТЕРАТУРЫ
Электронная структура нитрида кремния
В. А. Гриценко Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
Аннотация:
Аморфные оксид (SiO$_2$), оксинитрид (SiO$_x$N$_y$) и нитрид (Si$_3$N$_4$) кремния являются тремя ключевыми диэлектриками в кремниевых приборах. В настоящее время нитрид кремния находит многочисленные применения, в частности, в качестве запоминающей среды в приборах флеш-памяти нового поколения. Изменение химического состава нестехиометрического нитрида кремния SiN$_x$, обогащённого кремнием, позволяет в широком диапазоне управлять его оптическими и электрическими свойствами. Настоящий обзор посвящён анализу электронной структуры нитрида кремния переменного состава.
Поступила: 8 декабря 2011 г. Одобрена в печать: 16 января 2012 г.
Образец цитирования:
В. А. Гриценко, “Электронная структура нитрида кремния”, УФН, 182:5 (2012), 531–541; Phys. Usp., 55:5 (2012), 498–507
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ufn4204 https://www.mathnet.ru/rus/ufn/v182/i5/p531
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 532 | PDF полного текста: | 188 | Список литературы: | 55 | Первая страница: | 1 |
|