|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
1995 |
1. |
В. И. Чередник, В. М. Треушников, А. В. Олейник, О. А. Усачева, “Пакет программ для моделирования фотолитографического процесса формирования защитного рисунка с использованием позитивных фоторезистов”, Матем. моделирование, 7:1 (1995), 110–117 |
|