|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
1982 |
1. |
Р. В. Митин, Н. И. Гончар, А. В. Звягинцев, “Возможности и некоторые новые конструкции высокочастотных емкостных плазмотронов”, ТВТ, 20:2 (1982), 342–346 ; R. V. Mitin, N. I. Gonchar, A. V. Zvyagintsev, “Possibilities of and some new designs for high-frequency capacitance plasmotrons”, High Temperature, 20:2 (1982), 301–305 |
|
1981 |
2. |
Р. В. Митин, А. В. Звягинцев, Н. И. Гончар, “Расчет характеристик емкостных высокочастотных разрядов”, ТВТ, 19:2 (1981), 246–252 ; R. V. Mitin, A. V. Zvyagintsev, N. I. Gonchar, “Characteristics of high-frequency capacitative discharges”, High Temperature, 19:2 (1981), 175–181 |
|
1980 |
3. |
Р. В. Митин, А. В. Звягинцев, Н. И. Гончар, “О пороговом режиме индукционного разряда”, ТВТ, 18:3 (1980), 497–500 |
|
1978 |
4. |
Р. В. Митин, А. В. Звягинцев, Н. И. Гончар, “Об оптимизации емкостного плазмотрона”, ТВТ, 16:2 (1978), 384–389 |
|
1976 |
5. |
Н. И. Гончар, А. В. Звягинцев, Р. В. Митин, К. К. Прядкин, “Использование безэлектродного емкостного ВЧ-плазмотрона для нанесения тугоплавких диэлектрических покрытий”, ТВТ, 14:4 (1976), 853–856 ; N. I. Gonchar, A. V. Zvyagintsev, R. V. Mitin, K. K. Pr`adkin, “Use of an electrodeless capacitor high-frequency plasmotron for applying refractory dielectric coatings”, High Temperature, 14:4 (1976), 754–757 |
|