Процессы рекристаллизации и образования сфероидных частиц золота в аморфноподобном AlN–TiB$_{2}$–TiSi$_{2}$ в результате отжига и последующей имплантации

Использовался пучок отрицательных ионов Au$^{-}$ и проводился высокотемпературный отжиг для рекристаллизации структуры рентгеноаморфного AlN–TiB$_{2}$–TiSi$_{2}$, имеющего характерные размеры областей ближнего упорядочения 0.8–1 nm. Прямые измерения методами высокоразрешающей просвечивающей электронной микроскопии и рентгеновским микроанализом (SEM with EDS) показали, что термический отжиг при 1300$^\circ$C на воздухе приводит к образованию наноразмерных фаз 10–15 nm из AlN, AlB$_{2}$, Al$_{3}$O$_{3}$ и TiO$_{2}$, а ионная имплантация отрицательных ионов Au$^{-}$ приводит к фрагментации (уменьшению) размера нанозерен до 2–5 nm с образованием нанокристаллитов из Au “шаровой” формы размером в несколько nm и формированию аморфной оксидной пленки в глубине (приповерхностном слое) покрытия за счет баллистического ионного перемешивания и каскадов столкновений.