Cверхтонкие эпитаксиальные пленки кобальта, сформированные под графеном

Исследован процесс интеркаляции кобальта под однослойный графен, выращенный на монокристаллической пленке Ni(111). Эксперименты проведены в условиях сверхвысокого вакуума. Характеризация образцов выполнена in situ методами дифракции медленных электронов, фотоэлектронной спектроскопии высокого энергетического разрешения с использованием синхротронного излучения и магнитного линейного дихроизма в фотоэмиссии Со 3$p$ электронов. Получены новые данные об эволюции атомной, электронной структуры и магнитных свойств системы с увеличением толщины слоя интеркалированного кобальта в диапазоне до 2 nm. Показано, что в ходе интеркаляции под слоем графена образуется псевдоморфная эпитаксиальная пленка Со(111), обладающая перпендикулярной поверхности намагниченностью в аномально широком диапазоне толщин.