|
|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2016 |
| 1. |
Е. Б. Чубенко, С. В. Редько, А. И. Шерстнев, В. А. Петрович, Д. А. Котов, В. П. Бондаренко, “Влияние приповерхностного слоя на электрохимическое осаждение металлов и полупроводников в мезопористый кремний”, Физика и техника полупроводников, 50:3 (2016), 377–381   ; E. B. Chubenko, S. V. Red'ko, A. I. Sherstnyov, В. А. Петрович, D. A. Kotov, V. P. Bondarenko, “Influence of the surface layer on the electrochemical deposition of metals and semiconductors into mesoporous silicon”, Semiconductors, 50:3 (2016), 372–376 |
12
|
|
Обратная связь: