|
|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2023 |
| 1. |
Е. А. Баранов, В. А. Непомнящих, В. О. Константинов, В. Г. Щукин, И. Е. Меркулова, А. О. Замчий, Н. А. Лунев, В. А. Володин, А. А. Шаповалова, “Влияние плотности тока на структуру тонких пленок аморфного субоксида кремния при электронно-пучковом отжиге”, Прикл. мех. техн. физ., 64:5 (2023), 52–58   ; E. A. Baranov, V. A. Nepomnyashchikh, V. O. Konstantinov, V. G. Shchukin, I. E. Merkulova, A. O. Zamchiy, N. A. Lunev, V. A. Volodin, A. A. Shapovalova, “Influence of current density on the structure of thin films of amorphous silicon suboxide during electron beam annealing”, J. Appl. Mech. Tech. Phys., 64:5 (2024), 778–783 |
|
2022 |
| 2. |
Е. А. Баранов, А. О. Замчий, Н. А. Лунев, И. Е. Меркулова, В. А. Володин, М. Р. Шарафутдинов, А. А. Шаповалова, “Высокотемпературный отжиг тонких пленок субоксида кремния, полученных методом газоструйного химического осаждения с активацией электронно-пучковой плазмой”, Прикл. мех. техн. физ., 63:5 (2022), 33–41 ; E. A. Baranov, A. O. Zamchiy, N. A. Lunev, I. E. Merkulova, V. A. Volodin, M. R. Sharafutdinov, A. A. Shapovalova, “High-temperature annealing of thin silicon suboxide films produced by the method of gas-jet chemical deposition with activation by electron-beam plasma”, J. Appl. Mech. Tech. Phys., 63:5 (2022), 757–764 |
1
|
|
Обратная связь: