|
|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2021 |
| 1. |
С. Д. Полетаев, А. И. Любимов, “Особенности согласования нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек”, ЖТФ, 91:4 (2021), 657–663   ; S. D. Poletayev, A. I. Lyubimov, “Specific features of matching of a lower electrode and an RF bias generator for reactive ion etching of bulk substrates”, Tech. Phys., 66:12 (2021), 1294–1300  |
1
|
| 2. |
С. Д. Полетаев, А. И. Любимов, “Влияние асимметрии расположения металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек”, Физика и техника полупроводников, 55:12 (2021), 1255–1259 |
| 3. |
С. Д. Полетаев, А. И. Любимов, “Влияние металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек”, Письма в ЖТФ, 47:11 (2021), 44–47 ; S. D. Poletayev, A. I. Lyubimov, “The influence of metal masks on matching of the lower electrode and a high-frequency bias generator at reactive ion etching of large substrates”, Tech. Phys. Lett., 47:8 (2021), 569–572 |
|
Обратная связь: