|
|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2021 |
| 1. |
Л. К. Марков, А. С. Павлюченко, И. П. Смирнова, М. В. Меш, Д. С. Колоколов, “Применение метода атомно-слоевого осаждения для получения наноструктурированных покрытий ITO/Al$_{2}$O$_{3}$”, Физика и техника полупроводников, 55:4 (2021), 365–372   ; L. K. Markov, A. S. Pavluchenko, I. P. Smirnova, M. V. Mesh, D. S. Kolokolov, “Application of atomic layer deposition for obtaining nanostructured ITO/Al$_{2}$O$_{3}$ coatings”, Semiconductors, 55:4 (2021), 438–445 |
6
|
|
Обратная связь: