|
|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2019 |
| 1. |
Д. Б. Абраменко, П. С. Анциферов, Д. И. Астахов, А. Ю. Виноходов, И. Ю. Вичев, Р. Р. Гаязов, А. С. Грушин, Л. А. Дорохин, В. В. Иванов, Д. А. Ким, К. Н. Кошелев, П. В. Крайнов, М. С. Кривокорытов, В. М. Кривцун, Б. В. Лакатош, А. А. Лаш, В. В. Медведев, А. Н. Рябцев, Ю. В. Сидельников, Е. П. Снегирёв, А. Д. Соломянная, М. В. Спиридонов, И. П. Цыгвинцев, О. Ф. Якушев, А. А. Якушкин, “Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)”, УФН, 189:3 (2019), 323–334   ; D. B. Abramenko, P. S. Antsiferov, D. I. Astakhov, A. Yu. Vinokhodov, I. Yu. Vichev, R. R. Gayazov, A. S. Grushin, L. A. Dorokhin, V. V. Ivanov, D. A. Kim, K. N. Koshelev, P. V. Krainov, M. S. Krivokorytov, V. M. Krivtsun, B. V. Lakatosh, A. A. Lash, V. V. Medvedev, A. N. Ryabtsev, Yu. V. Sidelnikov, E. P. Snegirev, A. D. Solomyannaya, M. V. Spiridonov, I. P. Tsygvintsev, O. F. Yakushev, A. A. Yakushkin, “Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection (50th anniversary of the Institute of Spectroscopy, Russian Academy of Sciences)”, Phys. Usp., 62:3 (2019), 304–314   |
18
|
|
Обратная связь: