|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2017 |
1. |
A. E. Rogozhin, M. A. Bruk, E. N. Zhikharev, F. A. Sidorov, “Nanophotonic structure formation by dry e-beam etching of the resist: resolution limitation origins”, Компьютерная оптика, 41:4 (2017), 499–503 |
4
|
|
2015 |
2. |
М. А. Брук, Е. Н. Жихарев, Д. Р. Стрельцов, В. А. Кальнов, А. В. Спирин, А. Е. Рогожин, “Некоторые особенности нового метода формирования микрорельефа путём прямого электронно-лучевого травления резиста”, Компьютерная оптика, 39:2 (2015), 204–210 |
4
|
|
1987 |
3. |
М. А. Брук, “Радиационная полимеризации мономеров, адсорбированных на поверхности твердых тел”, Усп. хим., 56:1 (1987), 148–174 ; M. A. Bruk, “The Radiation Polymerisation of Monomers Adsorbed on Solid Surfaces”, Russian Chem. Reviews, 56:1 (1987), 81–96 |
9
|
|
1964 |
4. |
М. А. Брук, А. Д. Абкин, П. М. Хомиковский, Г. А. Гольдер, Чжу Сян-лин, “О некоторых вопросах радиационной полимеризации и сополимеризации тетрафторэтилена в твердом состоянии”, Докл. АН СССР, 157:6 (1964), 1399–1402 |
|
1963 |
5. |
М. А. Брук, А. Д. Абкин, П. М. Хомиковский, “Радиационная полимеризация тетрафторэтилена в твердом состоянии”, Докл. АН СССР, 149:6 (1963), 1322–1325 |
|