Закономерности изменения нормальных и касательных составляющих внутренних напряжений, индуцированных в приповерхностных слоях никелида титана электроннолучевыми воздействиями

Представлены результаты рентгеноструктурных исследований неравновесных структурных и упруго-напряженных состояний, сформировавшихся в приповерхностных слоях никелида титана после воздействий электронными пучками низких энергий (НСЭП). Установлено, что на облученной стороне образцов TiNi всегда образуется поверхностный слой со столбчатой структурой на основе $\mathrm B2$-фазы. Синтезированная в слое $\mathrm B2$ фаза характеризуется микродеформацией решетки, обусловленной напряжениями 1 и 2 рода $(\varepsilon^\mathrm I\approx\pm1$ %, $\varepsilon^\mathrm{II}=0.25$ %), а сам слой является концентратором внутренних напряжений для нижележащих слоев материала. В расположенном под ним промежуточном слое развивается процесс релаксации внутренних напряжений, индуцированных облучением. Показано, что основным механизмом такой релаксации является частичное деформационное мартенситное превращение $\mathrm B2\to\mathrm B19'$. Наличие мартенситной фазы $\mathrm B19'$ внутри промежуточного слоя приводит к уменьшению величины микродеформации решетки в соседствующей с ней фазе $\mathrm B2$, тем большему, чем больше объемная доля мартенситной фазы в слое. Толщина слоя, в котором развиваются релаксационные процессы по механизму деформационного мартенситного превращения $\mathrm B2\to\mathrm B19'$ составляет 10–15 мкм.