|
Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)
ФИЗИКА НАШИХ ДНЕЙ
Некоторые физические аспекты ионной имплантации
В. С. Вавилов Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР, г. Москва
Аннотация:
Имплантация ионов и родственные ей процессы осаждения и распыления. – Неравновесностъ и метастабильность ионно-имплантированных структур. – Аморфные твердые тела, создаваемые имплантацией ионов, и планарные структуры, их включающие. – Рекристаллизация слоев, легированных или (и) амортизированных имплантацией ионов. – Анализ состава и свойств ионно-имплантированных планарных структур. – Метод анализа спектров фото- и катодолюминесценции ионно-имплантированных слоев. – Оптическая методика изучения приповерхностных слоев ионно-имплантированных структур. – Емкостная спектроскопия энергетических уровней. – О пределах применимости ионной имплантации как метода управления свойствами полупроводников и других твердых тел.
Образец цитирования:
В. С. Вавилов, “Некоторые физические аспекты ионной имплантации”, УФН, 145:2 (1985), 329–346; Phys. Usp., 28:2 (1985), 196–206
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ufn8270 https://www.mathnet.ru/rus/ufn/v145/i2/p329
|
|