|
Эта публикация цитируется в 253 научных статьях (всего в 253 статьях)
ОБЗОРЫ АКТУАЛЬНЫХ ПРОБЛЕМ
Эпитаксия GaAs на кремниевых подложках: современное состояние исследований и разработок
Ю. Б. Болховитянов, О. П. Пчеляков Институт физики полупроводников СО РАН
Аннотация:
Кремний и арсенид галлия являются основными материалами современной микро- и наноэлектроники. Однако до сих пор приборы на их основе существуют раздельно на подложках Si и GaAs. Исследователи на протяжении последних более чем двадцати лет пытаются объединить эти материалы на наиболее эффективной подложке кремния. В настоящем обзоре систематизирован и обобщен достигнутый на сегодняшний день уровень понимания фундаментальных физических механизмов эпитаксиального формирования GaAs и соединений типа A$^{\mathrm{III}}$B$^{\mathrm{V}}$ на его основе на подложках Si; представлены также основные технологические приемы, способствующие улучшению качества таких гетероструктур. Освещены достижения последних лет в изготовлении гетероструктур A$^{\mathrm{III}}$B$^{\mathrm{V}}$/Si приборного качества и приборов на их основе.
Поступила: 28 ноября 2007 г. Доработана: 9 января 2008 г.
Образец цитирования:
Ю. Б. Болховитянов, О. П. Пчеляков, “Эпитаксия GaAs на кремниевых подложках: современное состояние исследований и разработок”, УФН, 178:5 (2008), 459–480; Phys. Usp., 51:5 (2008), 437–456
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ufn594 https://www.mathnet.ru/rus/ufn/v178/i5/p459
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 1586 | PDF полного текста: | 223 | Список литературы: | 56 | Первая страница: | 1 |
|