|
Эта публикация цитируется в 13 научных статьях (всего в 13 статьях)
ОБЗОРЫ АКТУАЛЬНЫХ ПРОБЛЕМ
Сканирующая туннельная микроскопия гетероэпитаксиального роста пленок III-нитридов
Р. З. Бахтизинa, Ч.-Ж. Щуеb, Ч.-К. Щуеc, К.-Х. Вуb, Т. Сакурайb a Башкирский государственный университет
b Институт проблем материаловедения университета Тохоку
c Институт физики АН КНР
Аннотация:
Анализируются современное состояние работ и новые тенденции в получении полупроводников III-нитридов и изучении их поверхностных свойств. C использованием уникальной установки, включающей сканирующий туннельный микроскоп (СТМ) на линии с камерой молекулярно-лучевой эпитаксии (МВЕ), в условиях сверхвысокого вакуума in situ исследованы атомные структуры на поверхности пленок GaN как с гексагональной, так и с кубической симметрией, выращенных методами МВЕ в присутствии азотной плазмы в широком диапазоне температур и отношений концентраций [N]/[Ga]. Из анализа СТМ-изображений с атомным разрешением и сопоставления их с результатами первопринципных расчетов полной энергии разработаны модели наблюдавшихся поверхностных фаз.
Поступила: 14 апреля 2003 г. Доработана: 27 октября 2003 г.
Образец цитирования:
Р. З. Бахтизин, Ч.-Ж. Щуе, Ч.-К. Щуе, К.-Х. Ву, Т. Сакурай, “Сканирующая туннельная микроскопия гетероэпитаксиального роста пленок III-нитридов”, УФН, 174:4 (2004), 383–405; Phys. Usp., 47:4 (2004), 371–391
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ufn33 https://www.mathnet.ru/rus/ufn/v174/i4/p383
|
|