|
Эта публикация цитируется в 70 научных статьях (всего в 70 статьях)
ОБЗОРЫ АКТУАЛЬНЫХ ПРОБЛЕМ
Применение и электронная структура диэлектриков с высокой диэлектрической проницаемостью
Т. В. Перевалов, В. А. Гриценко Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН
Аннотация:
Представлен обзор основных применений диэлектриков с высокой диэлектрической проницаемостью в кремниевых приборах. Рассмотрены основы метода функционала электронной плотности и его реализации в различных программных пакетах. Проанализированы результаты первопринципных расчётов электронной структуры для трёх наиболее важных и перспективных диэлектриков с высокой диэлектрической проницаемостью – Al$_2$O$_3$, HfO$_2$ и TiO$_2$.
Поступила: 20 апреля 2009 г. Доработана: 20 августа 2009 г.
Образец цитирования:
Т. В. Перевалов, В. А. Гриценко, “Применение и электронная структура диэлектриков с высокой диэлектрической проницаемостью”, УФН, 180:6 (2010), 587–603; Phys. Usp., 53:6 (2010), 561–575
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ufn2221 https://www.mathnet.ru/rus/ufn/v180/i6/p587
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 627 | PDF полного текста: | 197 | Список литературы: | 67 | Первая страница: | 1 |
|