|
Эта публикация цитируется в 16 научных статьях (всего в 16 статьях)
ПРИБОРЫ И МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЙ
Сканирующая туннельная микроскопия фуллеренов на поверхности металлов и полупроводников
Р. З. Бахтизинa, Т. Хашицумеb, Ш.-Д. Вонгc, Т. Сакурайc a Башкирский государственный университет, г. Уфа
b Hitachi Advanced Research Laboratory, Hitachi, Ltd., Hatoyama, Saitama, Japan
c Institute for Materials Research, Tohoku University
Аннотация:
Представлен обзор современного состояния работ по сверхвысоковакуумной сканирующей туннельной микроскопии (СТМ) молекул фуллеренов с использованием результатов исследований авторов. Основное внимание уделено рассмотрению взаимодействия фуллеренов C$_{60}$, C$_{70}$ и их смеси с поверхностями полупроводников (Si(111)-7$\times$7 и Si(100)-2$\times$1) и металлов (Cu(111)-1$\times$1 и Ag(111)-1$\times$1). Использование СТМ позволило осуществить прямое наблюдение адсорбционной геометрии фуллеренов и соответствующей реконструкции поверхности, а на изображениях с высоким разрешением — обнаружить внутримолекулярные структуры, которые проанализированы теоретически с привлечением модели локального распределения заряда. Приведены и обсуждаются результаты исследования упорядоченного роста пленок фуллеренов на поверхности металлов и полупроводников.
Поступила: 31 декабря 1997 г.
Образец цитирования:
Р. З. Бахтизин, Т. Хашицуме, Ш.-Д. Вонг, Т. Сакурай, “Сканирующая туннельная микроскопия фуллеренов на поверхности металлов и полупроводников”, УФН, 167:3 (1997), 289–307; Phys. Usp., 40:3 (1997), 275–290
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ufn1295 https://www.mathnet.ru/rus/ufn/v167/i3/p289
|
|