Теплофизика высоких температур
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Скоро в журнале
Архив
Импакт-фактор
Правила для авторов
Загрузить рукопись

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


ТВТ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Теплофизика высоких температур, 2009, том 47, выпуск 2, страницы 163–174 (Mi tvt684)  
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

Исследование плазмы

Новые характеристики экранирования в сильно неидеальной и пылевой плазме. Часть 3. Свойства и приложения

А. А. Михайловa, И. Вительb, Л. М. Игнатовичa

a Институт физики, Белград
b Laboratoire de physique des plasmas (LPP) - UMR 7648, Université Pierre-et-Marie-Curie
PDF полного текста (943 kB) Список цитирования (4)
Аннотация: В настоящей статье обсуждены физический смысл и свойства ряда параметров экранирования, определенных в предшествующих статьях (часть 1 и часть 2) для однокомпонентных и двухкомпонентных систем. На основании данных указанных статей определены две новых характерных длины, которые довершают новую иерархию систем длин экранирования в плазме. Показано, что методы, разработанные в части 1 и части 2, позволяют получить результаты, которые применимы к сильно неидеальным газовым и пылевым плазмам и очень хорошо согласуются с имеющимися экспериментальными данными.
Поступила в редакцию: 25.12.2007
Англоязычная версия:
High Temperature, 2009, Volume 47, Issue 2, Pages 147–157
DOI: https://doi.org/10.1134/S0018151X09020011
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
УДК: 537.5
PACS: 52.27.Aj, 52.27.Gr
Образец цитирования: А. А. Михайлов, И. Витель, Л. М. Игнатович, “Новые характеристики экранирования в сильно неидеальной и пылевой плазме. Часть 3. Свойства и приложения”, ТВТ, 47:2 (2009), 163–174; High Temperature, 47:2 (2009), 147–157
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{MikVitIgn09}
\by А.~А.~Михайлов, И.~Витель, Л.~М.~Игнатович
\paper Новые характеристики экранирования в сильно неидеальной и пылевой плазме. Часть 3. Свойства и приложения
\jour ТВТ
\yr 2009
\vol 47
\issue 2
\pages 163--174
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/tvt684}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=13066710}
\transl
\jour High Temperature
\yr 2009
\vol 47
\issue 2
\pages 147--157
\crossref{https://doi.org/10.1134/S0018151X09020011}
\isi{https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcApp=Publons&SrcAuth=Publons_CEL&DestLinkType=FullRecord&DestApp=WOS_CPL&KeyUT=000265650100001}
\scopus{https://www.scopus.com/record/display.url?origin=inward&eid=2-s2.0-65149086525}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/tvt684
  • https://www.mathnet.ru/rus/tvt/v47/i2/p163
    • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Теплофизика высоких температур Теплофизика высоких температур
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:114
    PDF полного текста:57
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024