Исследование интегральных характеристик приэлектродных слоев в емкостном ВЧ-разряде среднего давления

В диапазоне давлений до десятков кПа экспериментально исследуются зависимость интегральных характеристик приэлектродных слоев пространственного заряда и величина плотности разрядного тока от давления в неконтрагированной форме емкостного ВЧ-разряда, стационарно горящего в воздухе, гелии, $\mathrm{CO}_2$ в режиме нормальной плотности тока между плоскими охлаждаемыми электродами и удаленными стенками разрядной камеры. Установлено, что параметры пространственно однородной плазмы положительного столба такого типа разряда очень сильно зависят от структуры приэлектродных областей, которая может иметь качественно разную природу. Проанализирована роль диэлектрического покрытия электродов в емкостном ВЧ-разряде. Обсуждены возможности практического использования полученных результатов.