Теплофизика высоких температур
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Скоро в журнале
Архив
Импакт-фактор
Правила для авторов
Загрузить рукопись

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



ТВТ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Теплофизика высоких температур, 2015, том 53, выпуск 4, страницы 494–499
DOI: https://doi.org/10.7868/S0040364415030205
(Mi tvt587)
 

Эта публикация цитируется в 9 научных статьях (всего в 9 статьях)

Исследование плазмы

Возможности применения плазменных технологий для переработки органосодержащих веществ. Влияние формы кривой напряжения на режим работы плазмотрона

О. Б. Васильева, И. И. Кумкова, В. Е. Кузнецов, А. Ф. Рутберг, А. А. Сафронов, В. Н. Ширяев

Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики и электроэнергетики РАН, г. Санкт-Петербург
Список литературы:
Аннотация: Рассмотрены особенности плазмотронов переменного тока со стержневыми электродами, явления и закономерности, наблюдаемые при их работе в широком диапазоне мощности $0.1$$7$ МВт. Исследован механизм повторного зажигания дуги в однофазном и трехфазном режимах работы плазмотрона. Приведены характерные различия данных процессов, существование которых объясняется сохранением концентрации носителей тока в межэлектродном промежутке в трехфазном режиме. Показано, что изменение напряжения повторного зажигания происходит в соответствии с изменением температуры поверхности электродов, при этом с ростом тока наблюдается насыщение температуры электрода и фиксируется постоянство напряжения повторного зажигания. Особое внимание уделено анализу внешних характеристик плазмотронов в различных режимах работы при использовании в качестве рабочего газа азота, водорода и аргона. Рассмотрено влияние физических параметров плазмы на форму кривых напряжения и вольт-амперных характеристик дуг, описана зависимость от них энергетических параметров плазмотронов.
Поступила в редакцию: 13.03.2014
Принята в печать: 05.11.2014
Англоязычная версия:
High Temperature, 2015, Volume 53, Issue 4, Pages 470–475
DOI: https://doi.org/10.1134/S0018151X15030219
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
УДК: 533.9.004.14
Образец цитирования: О. Б. Васильева, И. И. Кумкова, В. Е. Кузнецов, А. Ф. Рутберг, А. А. Сафронов, В. Н. Ширяев, “Возможности применения плазменных технологий для переработки органосодержащих веществ. Влияние формы кривой напряжения на режим работы плазмотрона”, ТВТ, 53:4 (2015), 494–499; High Temperature, 53:4 (2015), 470–475
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{VasKumKuz15}
\by О.~Б.~Васильева, И.~И.~Кумкова, В.~Е.~Кузнецов, А.~Ф.~Рутберг, А.~А.~Сафронов, В.~Н.~Ширяев
\paper Возможности применения плазменных технологий для переработки органосодержащих веществ.
Влияние формы кривой напряжения на режим работы плазмотрона
\jour ТВТ
\yr 2015
\vol 53
\issue 4
\pages 494--499
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/tvt587}
\crossref{https://doi.org/10.7868/S0040364415030205}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=23908322}
\transl
\jour High Temperature
\yr 2015
\vol 53
\issue 4
\pages 470--475
\crossref{https://doi.org/10.1134/S0018151X15030219}
\isi{https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcApp=Publons&SrcAuth=Publons_CEL&DestLinkType=FullRecord&DestApp=WOS_CPL&KeyUT=000360082400003}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=24942479}
\scopus{https://www.scopus.com/record/display.url?origin=inward&eid=2-s2.0-84940201376}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/tvt587
  • https://www.mathnet.ru/rus/tvt/v53/i4/p494
  • Эта публикация цитируется в следующих 9 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Теплофизика высоких температур Теплофизика высоких температур
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024