|
Теплофизика высоких температур, 1983, том 21, выпуск 1, страницы 22–29
(Mi tvt5859)
|
|
|
|
Исследование плазмы
Особенности спектра плазмы ВЧ-разряда при травлении алюминия
В. В. Гусев, В. М. Долгополов, Д. И. Словецкий, Е. Ф. Шелыхманов г. Москва
Аннотация:
Проведено спектроскопическое исследование процесса травления алюминия в ВЧ-газовом разряде тетрахлорметана. На основе разработанной спектральной методики изучения механизмов процессов показано, что наиболее вероятным механизмом образования активных частиц в разряде является диссоциативное прилипание электронов. Установлено, что за инициирование процесса травления ответственна ионная компонента плазмы, а за травление чистого алюминия отвечают радикалы хлора. Исследовано влияние добавок кислорода, азота и воды на процесс травления. Объясняется зависимость скорости травления алюминия от площади поверхности образцов.
Поступила в редакцию: 07.08.1981
Образец цитирования:
В. В. Гусев, В. М. Долгополов, Д. И. Словецкий, Е. Ф. Шелыхманов, “Особенности спектра плазмы ВЧ-разряда при травлении алюминия”, ТВТ, 21:1 (1983), 22–29; High Temperature, 21:1 (1983), 19–25
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/tvt5859 https://www.mathnet.ru/rus/tvt/v21/i1/p22
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 111 | PDF полного текста: | 68 |
|