|
Теплофизика высоких температур, 1988, том 26, выпуск 3, страницы 428–435
(Mi tvt4295)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)
Исследование плазмы
Двумерная структура нормального тлеющего разряда и роль диффузии в формировании катодного и анодного токовых пятен
Ю. П. Райзер, С. Т. Суржиков Институт проблем механики АН СССР
Аннотация:
Приводятся результаты численного моделирования двумерного столба стационарного тлеющего разряда между плоскими электродами в широком диапазоне токов. Показано, что при увеличении тока и площади катодного пятна происходит выход на режим с постоянной (нормальной) плотностью тока в середине пятна. Проводится сопоставление с одномерной теорией катодного слоя. Особое внимание уделено выяснению роли диффузии,
в том числе "счетной", на формирование катодного и анодного слоев. Проводится сопоставление с измерениями плотности тока на аноде и обсуждаются физические механизмы, управляющие формированием слоев.
Поступила в редакцию: 01.07.1987
Образец цитирования:
Ю. П. Райзер, С. Т. Суржиков, “Двумерная структура нормального тлеющего разряда и роль диффузии в формировании катодного и анодного токовых пятен”, ТВТ, 26:3 (1988), 428–435; High Temperature, 26:3 (1988), 304–311
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/tvt4295 https://www.mathnet.ru/rus/tvt/v26/i3/p428
|
|