Вакуумные дуги на испаряющихся горячих анодах

Приведены экспериментальные и теоретические данные об области существования и основных характеристиках стационарных вакуумных дуг на горячих испаряющихся анодах из различных металлов ($\mathrm{Mg}$, $\mathrm{Cu}$, $\mathrm{Cr}$, $\mathrm{La}$, $\mathrm{Gd}$). Катодом дуги служила накаливаемая проволока из сплава $\mathrm{W}$–$\mathrm{Re}$. Качественный характер поведения дуг на различных анодах одинаковый, наиболее подробно исследована дуга на медном аноде при температуре $1500$–$1700$ K, ток дуги $1$–$10$ А. Температура анода изменялась с помощью электронно-лучевого подогревателя. Результаты расчета прианодного падения потенциала сопоставлены с экспериментальными данными. Показано, что исследованный разряд представляет интерес для плазменной технологии нанесения покрытий.