|
Теплофизика высоких температур, 2000, том 38, выпуск 1, страницы 19–23
(Mi tvt2012)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 7 научных статьях (всего в 7 статьях)
Исследование плазмы
Механизм увеличения толщины зоны теплового воздействия при импульсно-периодической обработке мишени электронным пучком
А. Б. Марков, В. П. Ротштейн Институт сильноточной электроники СО РАН, г. Томск
Аннотация:
На основании численного моделирования температурных полей проанализированы причины роста толщины слоев зоны теплового воздействия в мишени из стали $45$ при импульсно-периодическом воздействии низкоэнергетичным сильноточным электронным пучком в режиме начального плавления. Сделан вывод о том, что рост толщины этих слоев обусловлен, главным образом, разбросом плотности энергии пучка от импульса
к импульсу и наличием отдельных импульсов с повышенным относительно среднего значением плотности энергии. Показано, что изменение теплофизических свойств стали, происходящее при облучении за счет насыщения приповерхностной области мишени углеродом, приводит к росту толщины только тех слоев зоны теплового воздействия, которые формируются в области бывшего расплава. Измерена и численно рассчитана зависимость температуры мишени от количества импульсов облучения. Показано, что повышение температуры мишени не оказывает заметного влияния на рост толщины зоны теплового воздействия.
Поступила в редакцию: 02.04.1998
Образец цитирования:
А. Б. Марков, В. П. Ротштейн, “Механизм увеличения толщины зоны теплового воздействия при импульсно-периодической обработке мишени электронным пучком”, ТВТ, 38:1 (2000), 19–23; High Temperature, 38:1 (2000), 15–19
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/tvt2012 https://www.mathnet.ru/rus/tvt/v38/i1/p19
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 137 | PDF полного текста: | 71 |
|