Теория устойчивости нескинированного индукционного ВЧ-разряда в плотной плазме

С использованием модельной зависимости электропроводности плаз­мы от температуры найдено точное решение стационарного баланса тепла для индукционного нескинированного ВЧ-разряда в плотной плаз­ме. Введена вольт-амперная характеристика (ВАХ) активной нагрузки, вносимой плазмой в цепь индуктора. Исследована устойчивость баланса по отношению к возмущениям средней температуры плазмы. Показано, что устойчивость зависит от вида нагрузочной характеристики устрой­ства, питающего индуктор. Показано, что даже в случае, когда неустой­ чивость к возмущениям средней температуры стабилизирована, на па­дающем участке ВАХ вносимого сопротивления возможно возникновение неустойчивости по отношению к возмущениям, неоднородным вдоль оси индуктора, приводящей к расслоению разряда на две фазы с различными параметрами плазмы в них.