|
Эта публикация цитируется в 83 научных статьях (всего в 83 статьях)
Реакции ионного наслаивания. Применение в нанотехнологии
В. П. Толстой Институт химии Санкт-Петербургского государственного университета
Аннотация:
Обсуждены проблемы получения нанослоев веществ различных классов (неорганических, органических и гибридных – неорганических и органических) методами ионного, ионно-молекулярного и ионно-коллоидного наслаивания. Экспериментальный материал систематизирован в соответствии с основными типами химических реакций, протекающих на поверхности в процессе синтеза. Рассмотрено применение реакций ионного наслаивания в нанотехнологии для получения нанослоев, имеющих практически важное значение, в частности слоев в составе кондуктометрических газовых сенсоров на основе SnO2, пассивирующих защитных покрытий на поверхности металлов, полупроводниковых ячеек для преобразования солнечной энергии, фото-, электрохромных и магнитных материалов, мембран для процессов первапорации, электрокатализаторов, светодиодов и т.д. Библиография — 201 ссылка.
Поступила в редакцию: 10.03.2005
Образец цитирования:
В. П. Толстой, “Реакции ионного наслаивания. Применение в нанотехнологии”, Усп. хим., 75:2 (2006), 183–199; Russian Chem. Reviews, 75:2 (2006), 161–175
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/rcr331 https://www.mathnet.ru/rus/rcr/v75/i2/p183
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 745 |
|