|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Механизм действия электронного луча на органические фоторезисты
С. А. Неустроев, Е. Б. Соколов Московский институт электронной техники
Аннотация:
Статья содержит обзор литературы по разложению позитивного и негативного фоторезистов под действием актиничного света и электронной бомбардировки, рассмотрено взаимодействие электронного потока с другими органическими материалами, металлами и неорганическими диэлектриками. Рассмотрен механизм внутреннего облучения резиста, сводящийся к тому, что электроны, проходя через резист, возбуждают молекулы резиста с последующей флуоресценцией и фосфоресценцией. Рассмотрено влияние металлической и диэлектрической подложки на получение линий требуемой ширины. Отмечается, что процесс сшивания негативного фоторезиста под действием потока электронов происходит по механизму свободно-радикальной полимеризации. Библиография – 65 наименований.
Образец цитирования:
С. А. Неустроев, Е. Б. Соколов, “Механизм действия электронного луча на органические фоторезисты”, Усп. хим., 41:9 (1972), 1713–1734; Russian Chem. Reviews, 41:9 (1972), 795–806
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/rcr2569 https://www.mathnet.ru/rus/rcr/v41/i9/p1713
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 74 |
|