Создание плазмы с температурой 1 кэВ при воздействии субпикосекундного лазерного импульса с контрастом 1012 на твердое тело

Методом измерения потенциала мишени определена пиковая электронная температура плазмы, созданной при воздействии на металлическую мишень лазерного импульса c длительностью 0.8 пс и контрастом выше 10¹². Установлено, что электронная температура растет линейно с интенсивностью излучения, достигая 1 кэВ при 2.3·10¹⁶ Вт/см². Показано, что при наклонном падении излучения на мишень электронная температура не зависит от поляризации светового поля. Дана интерпретация наблюдаемого эффекта на основе обратнотормозного поглощения в плазме, плотность которой достигает плотности твердого тела.