Воздействие лазерного излучения на полиметилметакрилат, предварительно экспонированный рентгеновским излучением

Сравниваются эффективности воздействия лазерного излучения с λ = 337 нм и УФ излучения в полосе 300–380 нм на полиметилметакрилат, предварительно экспонированный рентгеновским излучением. Показано, что линия поглощения созданных ионизирующим излучением концевых макрорадикалов, ответственных за фотомодификацию полимера, является неоднородно уширенной, и фотореакции осуществляются в условиях насыщения.