|
Квантовая электроника, 1994, том 21, номер 4, страницы 329–332
(Mi qe79)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма
Оптический пробой кварцевого стекла излучением XeF-лазера
А. В. Амосовa, В. С. Барабановb, С. Ю. Герасимовa, Н. В. Морозовb, П. Б. Сергеевb, В. Н. Степанчукa a Государственный оптический институт им. С. И. Вавилова, г. Санкт-Петербург
b Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва
Аннотация:
Для кварцевых стекол КУ1 и КУВИ измерена объемная лучевая прочность при длительности импульса 85 нс на длине волны 353 нм. Пороги пробоя перечисленных материалов совпадают и составляют 280 ГВт/см2. С учетом результатов по лучевой прочности КУ1 на λ = 248 и 193 нм, полученных ранее на тех же образцах и при прочих одинаковых условиях, построена зависимость порога пробоя этого материала от длины волны. Делается вывод о том, что нелинейное поглощение является основным механизмом, ответственным за разрушение кварцевого стекла в интенсивных полях лазерного излучения УФ диапазона.
Поступила в редакцию: 06.08.1993
Образец цитирования:
А. В. Амосов, В. С. Барабанов, С. Ю. Герасимов, Н. В. Морозов, П. Б. Сергеев, В. Н. Степанчук, “Оптический пробой кварцевого стекла излучением XeF-лазера”, Квантовая электроника, 21:4 (1994), 329–332 [Quantum Electron., 24:4 (1994), 307–310]
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/qe79 https://www.mathnet.ru/rus/qe/v21/i4/p329
|
|