|
Квантовая электроника, 1996, том 23, номер 8, страницы 729–736
(Mi qe761)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 14 научных статьях (всего в 14 статьях)
Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма
Закономерности и механизм эффекта накопления в условиях многофотонной генерации центров окраски
О. Н. Босый, О. М. Ефимов Научно-исследовательский институт комплексных испытаний оптико-электронных приборов и систем, г. Сосновый Бор, Ленинградская обл.
Аннотация:
Исследованы закономерности эффекта накопления в свинцово-силикатных стеклах в условиях облучения, когда многофотонное возбуждение и окрашивание надежно регистрируются экспериментально (по изменению пропускания и образованию треков центров окраски). Установлено, что снижение порога разрушения при многократном облучении стекол в этих условиях связано с увеличением роли тепловой самофокусировки вследствие накопления центров окраски и увеличения показателя поглощения среды. Развитая теоретическая модель позволила объяснить не только форму кривых накопления, но и влияние диаметра пятна и эффективности генерации центров окраски на пороги однократного и многократного пробоя, а также влияние примесных ионов переменной валентности на характеристики процесса.
Поступила в редакцию: 01.01.1996
Образец цитирования:
О. Н. Босый, О. М. Ефимов, “Закономерности и механизм эффекта накопления в условиях многофотонной генерации центров окраски”, Квантовая электроника, 23:8 (1996), 729–736 [Quantum Electron., 26:8 (1996), 710–717]
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/qe761 https://www.mathnet.ru/rus/qe/v23/i8/p729
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 116 | PDF полного текста: | 76 |
|