Оптическая запись периодических структур в фотополимерных слоях

Определены оптимальные условия записи тонких фазовых решеток в фотополимерах (ФПМ) на основе олигоуретанакрилатов. Существенное повышение дифракционной эффективности получено благодаря выбору дозы первичной экспозиции. На основании представленного экспериментального материала развиты представления о существовании двух процессов, происходящих при записи периодической структуры в фотополимере, – диффузии инициатора в область ФПМ, совпадающей с максимумами интерференционного поля, и преимущественного роста радикальных цепей в направлении областей ФПМ, совпадающих с минимумами поля.