Динамика лазерного импульса в осветителе с высокой пространственной однородностью оптической накачки

Исследовались особенности поперечного распределения инверсии импульсного рубинового лазера, обусловленные различием конфигураций осветителей и характером их отражающих покрытий. Экспериментально показана связь поперечной структуры поля излучения с пространственным распределением инверсии для каждого типа осветителя. Установлено, что осветители с круговой цилиндрической геометрией и диффузными отражающими покрытиями создают наиболее равномерное поле накачки по объему активной среды, существенно облегчая условия получения режима генерации с упорядоченной пространственной и временной структурой.