|
Квантовая электроника, 1982, том 9, номер 11, страницы 2167–2172
(Mi qe6087)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Оптимальный режим формирования топологического рисунка при лазерной обработке пленок
В. П. Вейко, И. М. Карпман, М. Н. Либенсон, Е. Б. Яковлев Ленинградский институт точной механики и оптики
Аннотация:
Приведены результаты экспериментального исследования физико-технологических закономерностей образования отдельных прецизионных элементов в тонкой пленке и синтеза из этих элементов рисунка контурно-проекционным способом. Изучено влияние степени перекрытия соседних элементов на качество синтезируемого
рисунка. На основании полученных результатов установлены принципиальные ограничения рассмотренного метода. Предложен способ выбора оптимального режима обработки.
Поступила в редакцию: 30.11.1981
Образец цитирования:
В. П. Вейко, И. М. Карпман, М. Н. Либенсон, Е. Б. Яковлев, “Оптимальный режим формирования топологического рисунка при лазерной обработке пленок”, Квантовая электроника, 9:11 (1982), 2167–2172 [Sov J Quantum Electron, 12:11 (1982), 1408–1411]
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/qe6087 https://www.mathnet.ru/rus/qe/v9/i11/p2167
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 233 | PDF полного текста: | 104 | Первая страница: | 3 |
|